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光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201810877657.4
申请日：
2018-08-03
公开(公告)号：
CN109388018B
公开(公告)日：
2019-02-26
发明(设计)人：
三好将之
一之濑敬
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F172
IPC分类号：
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
庞东成;崔立宇
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-03-22 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/72 申请日:20180803 |
| 2022-06-17 | 授权 | 授权 |
| 2019-02-26 | 公开 | 公开 |