一种均匀性的多弧离子镀膜设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010092700.3

申请日：

2020-02-14

公开(公告)号：

CN111197154A

公开(公告)日：

2020-05-26

发明(设计)人：

王勇杨斌

申请人：

申请人地址：

314004 浙江省嘉兴市秀洲区高照街道桃园路1133号秀洲高新装备创业中心1号楼北楼A705室

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

C23C1450 C23C1454 C23C1456

代理机构：

济南旌励知识产权代理事务所(普通合伙) 31310

代理人：

王如意

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-26	公开	公开
2020-06-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/32 申请日:20200214
2022-02-01	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C23C 14/32 申请公布日:20200526

共 50 条

[1]

一种均匀性的多弧离子镀膜设备 [P].

朱文廓 ;

朱刚劲 ;

朱刚毅 .

中国专利 :CN205710894U ,2016-11-23

[2]

一种均匀性的多弧离子镀膜设备 [P].

朱文廓 ;

朱刚劲 ;

朱刚毅 .

中国专利 :CN105986229B ,2016-10-05

[3]

多弧离子镀膜设备 [P].

乔宏 ;

李灿伦 ;

倪俊 ;

景加荣 ;

李绍杰 ;

祁松松 ;

靳兆峰 ;

李艳臣 ;

王松超 .

中国专利 :CN114293153B ,2024-01-09

[4]

多弧离子镀膜设备 [P].

乔宏 ;

李灿伦 ;

倪俊 ;

景加荣 ;

李绍杰 ;

祁松松 ;

靳兆峰 ;

李艳臣 ;

王松超 .

中国专利 :CN114293153A ,2022-04-08

[5]

一种多弧离子镀膜设备 [P].

戚威 ;

吕林高 ;

汤烈明 ;

刘汇川 ;

李慧 ;

陈垒 ;

李小磊 ;

伍德民 .

中国专利 :CN120866776A ,2025-10-31

[6]

一种多弧离子镀膜设备 [P].

戚威 ;

吕林高 ;

汤烈明 ;

刘汇川 ;

李慧 ;

陈垒 ;

李小磊 ;

伍德民 .

中国专利 :CN120866776B ,2025-12-05

[7]

一种多弧离子镀用转架和多弧离子镀膜设备 [P].

赵升升 .

中国专利 :CN207062370U ,2018-03-02

[8]

一种用于PVD刀具喷涂涂层的多弧离子镀膜设备 [P].

刘梦燕 ;

梁钰天 .

中国专利 :CN116988021B ,2025-10-17

[9]

一种便于上料的多弧离子镀膜用镀膜工装 [P].

增田清志 ;

增田博志 .

中国专利 :CN217997306U ,2022-12-09

[10]

一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架 [P].

李向周 .

中国专利 :CN215050649U ,2021-12-07

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