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一种多弧离子镀膜设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202511376492.9
申请日：
2025-09-25
公开(公告)号：
CN120866776B
公开(公告)日：
2025-12-05
发明(设计)人：
戚威 吕林高 汤烈明 刘汇川 李慧 陈垒 李小磊 伍德民
申请人：
季华实验室
申请人地址：
528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
IPC主分类号：
C23C14/32
IPC分类号：
C23C14/50
代理机构：
北京开阳星知识产权代理有限公司 11710
代理人：
姚金金
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-10-31 公开 公开
2025-12-05 授权 授权
2025-11-18 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/32申请日:20250925
共 50 条
[1]
一种多弧离子镀膜设备 [P]. 
戚威 ;
吕林高 ;
汤烈明 ;
刘汇川 ;
李慧 ;
陈垒 ;
李小磊 ;
伍德民 .
中国专利 :CN120866776A ,2025-10-31
[2]
多弧离子镀膜设备 [P]. 
乔宏 ;
李灿伦 ;
倪俊 ;
景加荣 ;
李绍杰 ;
祁松松 ;
靳兆峰 ;
李艳臣 ;
王松超 .
中国专利 :CN114293153B ,2024-01-09
[3]
多弧离子镀膜设备 [P]. 
乔宏 ;
李灿伦 ;
倪俊 ;
景加荣 ;
李绍杰 ;
祁松松 ;
靳兆峰 ;
李艳臣 ;
王松超 .
中国专利 :CN114293153A ,2022-04-08
[4]
一种多弧离子镀用转架和多弧离子镀膜设备 [P]. 
赵升升 .
中国专利 :CN207062370U ,2018-03-02
[5]
一种均匀性的多弧离子镀膜设备 [P]. 
朱文廓 ;
朱刚劲 ;
朱刚毅 .
中国专利 :CN205710894U ,2016-11-23
[6]
一种均匀性的多弧离子镀膜设备 [P]. 
朱文廓 ;
朱刚劲 ;
朱刚毅 .
中国专利 :CN105986229B ,2016-10-05
[7]
一种均匀性的多弧离子镀膜设备 [P]. 
王勇 ;
杨斌 .
中国专利 :CN111197154A ,2020-05-26
[8]
一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架 [P]. 
李向周 .
中国专利 :CN215050649U ,2021-12-07
[9]
一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架 [P]. 
李启炎 .
中国专利 :CN209194039U ,2019-08-02
[10]
一种便于上料的多弧离子镀膜用镀膜工装 [P]. 
增田清志 ;
增田博志 .
中国专利 :CN217997306U ,2022-12-09
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