喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03132661.7

申请日：

2003-09-30

公开(公告)号：

CN1497659A

公开(公告)日：

2004-05-19

发明(设计)人：

高木善则水野博喜清野和昭

申请人：

申请人地址：

日本京都府京都市

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21302 B08B302 B05C500

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

张天安;杨松龄

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-04-19	授权	授权
2004-07-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2004-05-19	公开	公开
2013-11-20	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101542122105 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL031326617 申请日:20030930 授权公告日:20060419 终止日期:20120930

共 50 条

[1]

喷嘴装置及具备该喷嘴装置的基板处理装置 [P].

赤坂丈士 ;

水川茂 ;

村田贵 ;

中田胜利 ;

松元俊二 .

中国专利 :CN1582202A ,2005-02-16

[2]

喷嘴清扫构件、喷嘴清扫装置、涂布装置 [P].

芳川典生 ;

时枝大佐 .

中国专利 :CN108296086B ,2018-07-20

[3]

喷嘴，包括该喷嘴的基板处理装置以及基板处理方法 [P].

金善美 ;

权五镇 ;

崔世亨 .

中国专利 :CN112439573B ,2021-03-05

[4]

喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法 [P].

安陪裕滋 ;

高村幸宏 .

中国专利 :CN108855719A ,2018-11-23

[5]

喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法 [P].

安陪裕滋 ;

高村幸宏 .

中国专利 :CN108855720B ,2018-11-23

[6]

喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法 [P].

安陪裕滋 ;

柳沢畅生 .

中国专利 :CN107433240A ,2017-12-05

[7]

复合喷嘴及具备该复合喷嘴的基板处理装置 [P].

松下亮 ;

广川昌利 ;

林田充司 ;

瓦力·盖尓塔 .

中国专利 :CN103370771A ,2013-10-23

[8]

清扫装置以及具备该清扫装置的图像形成装置 [P].

村内淳二 ;

萩本宪俊 ;

中根良树 ;

冈田拓也 .

中国专利 :CN107346097A ,2017-11-14

[9]

喷嘴清扫装置、涂覆装置、喷嘴清扫方法和刮除器 [P].

高村幸宏 .

中国专利 :CN113145363A ,2021-07-23

[10]

狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置 [P].

元田公男 ;

宫崎文宏 ;

太田义治 ;

川内拓男 .

中国专利 :CN102161027A ,2011-08-24

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