喷嘴，包括该喷嘴的基板处理装置以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010909543.0

申请日：

2020-09-02

公开(公告)号：

CN112439573B

公开(公告)日：

2021-03-05

发明(设计)人：

金善美权五镇崔世亨

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102 B05B700

代理机构：

北京市中伦律师事务所 11410

代理人：

钟锦舜;王丽

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B05B 7/00 申请日:20200902
2022-12-13	授权	授权
2021-03-05	公开	公开

共 50 条

[1]

喷嘴、包括喷嘴的基板处理装置、以及基板处理方法 [P].

金善美 ;

张奎焕 .

中国专利 :CN113903648A ,2022-01-07

[2]

喷嘴、包括喷嘴的基板处理装置和基板处理方法 [P].

崔基勋 ;

朱润钟 ;

姜秉万 .

中国专利 :CN106206368A ,2016-12-07

[3]

基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法 [P].

山下永二 ;

富藤幸雄 ;

羽方满之 .

中国专利 :CN104952765B ,2015-09-30

[4]

狭缝喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

池田文彦 ;

楫野一树 ;

细川章宏 ;

吉田顺一 .

中国专利 :CN100581657C ,2006-09-20

[5]

双流体喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

宫城雅宏 .

中国专利 :CN100593839C ,2008-06-25

[6]

气体喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

坂下训康 ;

小川悟 .

日本专利 :CN113818008B ,2024-07-26

[7]

气体喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

坂下训康 ;

小川悟 .

中国专利 :CN113818008A ,2021-12-21

[8]

狭缝喷嘴以及基板处理装置 [P].

安陪裕滋 ;

塩田明仁 .

中国专利 :CN214440464U ,2021-10-22

[9]

基板处理装置以及吐出喷嘴 [P].

山冈英人 ;

伊吹征也 .

中国专利 :CN211828692U ,2020-10-30

[10]

包括喷嘴单元的基板处理装置及基板处理方法 [P].

李周桓 ;

李贤俊 ;

朴素永 ;

田明娥 .

韩国专利 :CN117727651A ,2024-03-19

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