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用于相位衬度成像和/或暗场成像的分析格栅
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780035137.2
申请日
:
2017-06-08
公开(公告)号
:
CN109478440A
公开(公告)日
:
2019-03-15
发明(设计)人
:
T·克勒
R·斯特德曼布克
M·西蒙
W·吕腾
H·K·维乔雷克
申请人
:
申请人地址
:
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号
:
G21K102
IPC分类号
:
G01T120
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
蔡洪贵
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-03-15
公开
公开
2019-07-05
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G21K 1/02 申请日:20170608
共 50 条
[1]
用于对可移动对象进行相位衬度和/或暗场成像的光栅设备
[P].
M·格拉斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
M·格拉斯
;
D·舍费尔
论文数:
0
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D·舍费尔
;
T·克勒
论文数:
0
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0
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0
T·克勒
.
中国专利
:CN106456083A
,2017-02-22
[2]
用于相位衬度成像的检查和/或处理装置
[P].
C.恩格尔克
论文数:
0
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0
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0
C.恩格尔克
.
中国专利
:CN209332070U
,2019-09-03
[3]
用于相位对比和/或暗场成像的X射线探测器
[P].
R·普罗克绍
论文数:
0
引用数:
0
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0
R·普罗克绍
.
中国专利
:CN107850680A
,2018-03-27
[4]
用于相位衬度成像的旋转X射线装置
[P].
J·布雷多诺
论文数:
0
引用数:
0
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0
J·布雷多诺
.
中国专利
:CN101978257B
,2011-02-16
[5]
用于同时相位衬度成像和电子能量损失光谱法的系统和方法
[P].
I·拉吉克
论文数:
0
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0
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0
I·拉吉克
;
S·维斯普奇
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0
S·维斯普奇
;
E·G·博世
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E·G·博世
;
B·H·弗雷塔
论文数:
0
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0
B·H·弗雷塔
.
中国专利
:CN114113686A
,2022-03-01
[6]
用于相位对比和暗场成像的运动伪影校正
[P].
T·克勒
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0
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0
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机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
T·克勒
;
A·亚罗申科
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机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
A·亚罗申科
;
H-I·马克
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机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
H-I·马克
;
T·普拉洛
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机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
T·普拉洛
;
B·伦特
论文数:
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0
机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
B·伦特
.
:CN114746896B
,2025-11-07
[7]
用于相位对比和暗场成像的运动伪影校正
[P].
T·克勒
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T·克勒
;
A·亚罗申科
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A·亚罗申科
;
H-I·马克
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H-I·马克
;
T·普拉洛
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T·普拉洛
;
B·伦特
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0
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B·伦特
.
中国专利
:CN114746896A
,2022-07-12
[8]
差分相位衬度X射线成像中暗场信号的优化能量加权
[P].
T·克勒
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0
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0
T·克勒
;
E·勒斯尔
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E·勒斯尔
;
G·马滕斯
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0
G·马滕斯
;
H·德尔
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0
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0
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0
H·德尔
.
中国专利
:CN106793986A
,2017-05-31
[9]
高衬度低剂量相位衬度CT成像装置
[P].
雷恒波
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0
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0
雷恒波
;
孙明山
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孙明山
;
杨晓冬
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杨晓冬
;
曾维俊
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曾维俊
;
孙海旋
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孙海旋
;
王钟周
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王钟周
;
王骏
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王骏
;
陆亚林
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陆亚林
;
田扬超
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田扬超
.
中国专利
:CN107748341A
,2018-03-02
[10]
高衬度低剂量相位衬度CT成像装置
[P].
雷恒波
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雷恒波
;
孙明山
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孙明山
;
杨晓冬
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杨晓冬
;
曾维俊
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曾维俊
;
孙海旋
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孙海旋
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王钟周
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王钟周
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王骏
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王骏
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陆亚林
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陆亚林
;
田扬超
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田扬超
.
中国专利
:CN207457480U
,2018-06-05
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