用于相位对比和/或暗场成像的X射线探测器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680042519.3

申请日：

2016-07-20

公开(公告)号：

CN107850680A

公开(公告)日：

2018-03-27

发明(设计)人：

R·普罗克绍

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

G01T120

IPC分类号：

A61B600

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

李光颖;王英

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-21	授权	授权
2018-08-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01T 1/20 申请日:20160720
2018-03-27	公开	公开

共 50 条

[1]

用于相位对比成像的X射线探测器 [P].

C·博伊默 ;

K·J·恩格尔 ;

C·赫尔曼 .

中国专利 :CN101952900B ,2011-01-19

[2]

用于X射线相位对比成像的探测装置 [P].

T·克勒 .

中国专利 :CN101873828B ,2010-10-27

[3]

用于X射线成像的探测器 [P].

P·G·范德哈尔 ;

W·吕腾 ;

H·施泰因豪泽 ;

H·斯特格胡伊斯 ;

O·J·维默斯 .

中国专利 :CN111684311A ,2020-09-18

[4]

对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测 [P].

R·斯特德曼布克 ;

E·勒斯尔 ;

W·吕腾 .

中国专利 :CN109863424A ,2019-06-07

[5]

相位对比X射线成像设备 [P].

O·普罗伊彻 .

中国专利 :CN105228524A ,2016-01-06

[6]

基于光栅的相位对比X射线设备的X射线探测器和用于操作基于光栅的相位对比X射线设备的方法 [P].

M.拉迪克 .

中国专利 :CN103814291B ,2014-05-21

[7]

X射线探测器和X射线成像装置 [P].

H·施泰因豪泽 ;

O·J·维默斯 ;

P·L·阿尔温 ;

M·西蒙 .

中国专利 :CN110168406A ,2019-08-23

[8]

X射线探测器和X射线探测器制造方法 [P].

唐德铮 .

中国专利 :CN101253419B ,2008-08-27

[9]

探测器面板和X射线成像设备 [P].

宜帆 .

中国专利 :CN101507609B ,2009-08-19

[10]

利用像素化探测器的X射线成像 [P].

K·J·恩格尔 ;

G·福格特米尔 .

中国专利 :CN103081024A ,2013-05-01

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