基于PECVD的石墨烯薄膜镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201620685725.3

申请日：

2016-06-30

公开(公告)号：

CN205856606U

公开(公告)日：

2017-01-04

发明(设计)人：

朱建明李金清

申请人：

申请人地址：

526060 广东省肇庆市端州大道

IPC主分类号：

C23C1654

IPC分类号：

C23C1626 C23C16509

代理机构：

广州市华学知识产权代理有限公司 44245

代理人：

谢静娜;裘晖

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-01-04	授权	授权
2020-06-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/54 申请日:20160630 授权公告日:20170104 终止日期:20190630

共 50 条

[1]

基于PECVD的石墨烯薄膜镀膜设备及方法 [P].

朱建明 ;

李金清 .

中国专利 :CN106011798B ,2016-10-12

[2]

基于PECVD的增强型石墨烯薄膜镀膜设备 [P].

朱建明 .

中国专利 :CN207072970U ,2018-03-06

[3]

基于PECVD的增强型石墨烯薄膜镀膜设备及方法 [P].

朱建明 .

中国专利 :CN107217241A ,2017-09-29

[4]

一种石墨烯超材料薄膜的镀膜设备 [P].

陈甦 ;

姚涛 .

中国专利 :CN217368989U ,2022-09-06

[5]

石墨烯薄膜的制备设备 [P].

颜士斌 ;

马远 ;

维塔利·塔塔琴科 ;

宗志远 ;

牛沈军 .

中国专利 :CN203639159U ,2014-06-11

[6]

一种基于石墨烯薄膜的压力探测设备 [P].

汪际军 .

中国专利 :CN206920049U ,2018-01-23

[7]

石墨烯薄膜的制备方法及设备 [P].

颜士斌 ;

马远 ;

维塔利·塔塔琴科 ;

宗志远 ;

牛沈军 .

中国专利 :CN103708444A ,2014-04-09

[8]

用于在石墨烯薄膜上生成透明导电薄膜的溅射镀膜装置 [P].

刘志斌 ;

杨晓晖 ;

黄海东 ;

陈凯 .

中国专利 :CN203065565U ,2013-07-17

[9]

摩擦碾压石墨烯薄膜生产设备 [P].

高兴玉 .

中国专利 :CN210237130U ,2020-04-03

[10]

石墨烯薄膜的套管式沉积装置及制备方法 [P].

王雄彪 ;

曹风 ;

彭海琳 ;

李科 ;

徐涛 ;

沈伟 ;

刘忠范 .

中国专利 :CN116621165B ,2025-09-16

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