共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200710306118.7
申请日：
2004-05-06
公开(公告)号：
CN101216682A
公开(公告)日：
2008-07-09
发明(设计)人：
大村泰弘
申请人：
申请人地址：
日本东京千代田区丸之内3丁目2番3号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G02B1708
代理机构：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人：
寿宁;张华辉
法律状态：
发明专利申请公布后的驳回
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-12-19 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20080709 |
| 2014-07-23 | 著录事项变更 | 著录事项变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101703177479 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2007103061187 变更事项:申请人 变更前:株式会社尼康 变更后:株式会社尼康 变更事项:地址 变更前:日本东京千代田区丸之内3丁目2番3号 变更后:日本东京千代田区有乐町一丁目12番1号 |
| 2008-07-09 | 公开 | 公开 |
| 2008-09-03 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
| 2020-09-01 | 授权 | 授权 |