投影光学系统、曝光装置以及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03122206.4

申请日：

2003-04-16

公开(公告)号：

CN1452016A

公开(公告)日：

2003-10-29

发明(设计)人：

铃木刚司小松田秀基大村泰弘

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京集佳专利商标事务所

代理人：

王学强

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-10-29	公开	公开
2007-10-03	授权	授权
2005-06-29	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

小松田秀基 ;

高桥友刀 ;

铃木雅之 .

中国专利 :CN1954406A ,2007-04-25

[2]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

大村泰弘 ;

大和壮一 .

中国专利 :CN101002127A ,2007-07-18

[3]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN1745457A ,2006-03-08

[4]

投影光学系统,具有该投影光学系统的投影曝光装置以及投影曝光方法 [P].

重松幸二 ;

水泽圣幸 ;

藤岛洋平 ;

松本实保 .

中国专利 :CN1376949A ,2002-10-30

[5]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN1324342C ,2003-10-29

[6]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216599A ,2008-07-09

[7]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216598A ,2008-07-09

[8]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216682A ,2008-07-09

[9]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216600A ,2008-07-09

[10]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101295140A ,2008-10-29

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