投影光学系统,具有该投影光学系统的投影曝光装置以及投影曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02106801.1

申请日：

2002-03-01

公开(公告)号：

CN1376949A

公开(公告)日：

2002-10-30

发明(设计)人：

重松幸二水泽圣幸藤岛洋平松本实保

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B1318 G02B2718

代理机构：

北京集佳专利商标事务所

代理人：

王学强

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-08-09	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2004-06-09	实质审查的生效	实质审查的生效
2002-10-30	公开	公开

共 50 条

[1]

投影光学系统以及具有该投影光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN100439965C ,2007-01-10

[2]

投影光学系统以及具备该投影光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN1497353A ,2004-05-19

[3]

投影光学系统和具有该投影光学系统的曝光装置 [P].

末永丰 .

中国专利 :CN1423147A ,2003-06-11

[4]

投影光学系统及具备该投影光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN1522381A ,2004-08-18

[5]

投影光学系统以及具备此投影光学系统的曝光装置 [P].

铃木刚司 .

中国专利 :CN1374560A ,2002-10-16

[6]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

铃木刚司 ;

小松田秀基 ;

大村泰弘 .

中国专利 :CN1452016A ,2003-10-29

[7]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

小松田秀基 ;

高桥友刀 ;

铃木雅之 .

中国专利 :CN1954406A ,2007-04-25

[8]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

大村泰弘 ;

大和壮一 .

中国专利 :CN101002127A ,2007-07-18

[9]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN1745457A ,2006-03-08

[10]

投影光学系统、投影光学系统的制造方法和使用该光学系统的投影曝光装置 [P].

平岩弘之 ;

田中一政 .

中国专利 :CN1293822A ,2001-05-02

← 1 2 3 4 5 →