用于通过真空蒸发沉积薄膜的装置的喷射系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280051570.2

申请日：

2012-10-18

公开(公告)号：

CN103906856A

公开(公告)日：

2014-07-02

发明(设计)人：

J-L·居约克斯 J·维莱特 N·布莱恩特 D·埃斯特韦

申请人：

申请人地址：

法国贝松

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

C23C1426 C23C1422

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

肖威;刘金辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-10-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101587796018 IPC(主分类):C23C 14/24 专利申请号:2012800515702 申请日:20121018
2016-11-09	授权	授权

共 50 条

[1]

用于真空蒸发沉积系统的喷射器 [P].

J-L·居约克斯 ;

F·施特梅伦 ;

C·德奥利维拉 .

中国专利 :CN102787298A ,2012-11-21

[2]

用于真空蒸发源的喷射器 [P].

J-L·居约克斯 ;

F·施特梅伦 ;

O·格兰奇 .

中国专利 :CN102534507B ,2012-07-04

[3]

用于真空蒸发系统的蒸发装置、用于沉积材料膜的设备和方法 [P].

Y·卢梭 ;

J-L·居约克斯 ;

F·施特梅伦 .

中国专利 :CN111139436A ,2020-05-12

[4]

离心薄膜真空蒸发装置 [P].

李忠辉 ;

贺其凯 ;

安军 ;

李忠伟 ;

曹清林 .

中国专利 :CN215136942U ,2021-12-14

[5]

离心薄膜真空蒸发装置 [P].

严庆东 .

中国专利 :CN113368518A ,2021-09-10

[6]

离心薄膜真空蒸发装置 [P].

严庆东 .

中国专利 :CN215387611U ,2022-01-04

[7]

离心薄膜真空蒸发装置 [P].

严庆东 .

中国专利 :CN113368518B ,2024-07-16

[8]

真空蒸发物理气相沉积薄膜生长装置 [P].

史伟民 ;

郑耀明 ;

徐环 .

中国专利 :CN201024211Y ,2008-02-20

[9]

真空蒸发系统 [P].

张志林 ;

张建华 ;

蒋雪茵 ;

刘立宁 ;

李俊 .

中国专利 :CN103160788B ,2013-06-19

[10]

真空蒸发装置 [P].

王金志 ;

王金鹏 .

中国专利 :CN209548731U ,2019-10-29

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