用于真空蒸发系统的蒸发装置、用于沉积材料膜的设备和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911078757.1

申请日：

2019-11-06

公开(公告)号：

CN111139436A

公开(公告)日：

2020-05-12

发明(设计)人：

Y·卢梭 J-L·居约克斯 F·施特梅伦

申请人：

申请人地址：

法国贝松

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

牛晓玲;吴鹏

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-12	公开	公开
2021-12-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/24 申请日:20191106

共 50 条

[1]

用于固态材料的真空蒸发设备 [P].

迈克尔·斯沙斐尔 ;

博尔德·迈耶尔 .

中国专利 :CN101688290A ,2010-03-31

[2]

用于真空蒸发沉积系统的喷射器 [P].

J-L·居约克斯 ;

F·施特梅伦 ;

C·德奥利维拉 .

中国专利 :CN102787298A ,2012-11-21

[3]

用于通过真空蒸发沉积薄膜的装置的喷射系统 [P].

J-L·居约克斯 ;

J·维莱特 ;

N·布莱恩特 ;

D·埃斯特韦 .

中国专利 :CN103906856A ,2014-07-02

[4]

用于蒸发源材料的蒸发装置、蒸发源和沉积系统 [P].

塞巴斯蒂安·弗兰克 ;

伊夫林·舍尔 ;

斯特凡·凯勒 ;

安德烈亚斯·穆勒 ;

佩曼·哈梅格 ;

朱利安·奥巴赫 .

中国专利 :CN211227301U ,2020-08-11

[5]

用于真空蒸发室的蒸发单元及相关蒸发方法 [P].

J-L·居约克斯 ;

F·施特梅伦 ;

Y·卢梭 .

中国专利 :CN112680699A ,2021-04-20

[6]

用于真空蒸发室的蒸发单元及相关蒸发方法 [P].

J-L·居约克斯 ;

F·施特梅伦 ;

Y·卢梭 .

法国专利 :CN112680699B ,2024-06-21

[7]

用于真空沉积装置的蒸发设备及包括该蒸发设备的真空沉积装置 [P].

J·维莱特 ;

J-L·居约克斯 ;

D·埃斯特韦 .

中国专利 :CN103526163A ,2014-01-22

[8]

一种用于镀膜的真空蒸发装置 [P].

颜见锋 .

中国专利 :CN208791736U ,2019-04-26

[9]

真空蒸发浓缩结晶的系统和方法 [P].

岳晨 ;

韩东 ;

蒲文灏 ;

何纬峰 .

中国专利 :CN105833562A ,2016-08-10

[10]

用于控制真空蒸发中蒸汽流的方法和装置 [P].

P·范登布朗德 .

中国专利 :CN101925688A ,2010-12-22

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