用于真空沉积装置的蒸发设备及包括该蒸发设备的真空沉积装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310374327.0
申请日
2013-07-04
公开(公告)号
CN103526163A
公开(公告)日
2014-01-22
发明(设计)人
J·维莱特 J-L·居约克斯 D·埃斯特韦
申请人
申请人地址
法国贝松斯
IPC主分类号
C23C1424
IPC分类号
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
吴鹏;马江立
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
用于沉积蒸发材料的蒸发源、真空沉积系统和用于沉积蒸发材料的方法 [P]. 
安德烈亚斯·洛普 ;
D·哈斯 .
中国专利 :CN110691861A ,2020-01-14
[2]
真空沉积方法和真空沉积用密封型蒸发源设备 [P]. 
高木俊宣 ;
中村宏毅 ;
渡辺宽 ;
福田辰男 .
中国专利 :CN100557068C ,2007-04-11
[3]
真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法 [P]. 
李济玩 ;
林永昌 ;
李星昊 ;
朴成镐 ;
崔完旭 ;
郑锡宪 .
中国专利 :CN102465252B ,2012-05-23
[4]
用于材料蒸发的组件、真空沉积设备和用于材料蒸发的方法 [P]. 
佩曼·哈米吉尔 ;
塞巴斯蒂安·斯塔克 .
美国专利 :CN114667366B ,2024-11-29
[5]
用于材料蒸发的组件、真空沉积设备和用于材料蒸发的方法 [P]. 
佩曼·哈米吉尔 ;
塞巴斯蒂安·斯塔克 .
中国专利 :CN114667366A ,2022-06-24
[6]
用于真空蒸发系统的蒸发装置、用于沉积材料膜的设备和方法 [P]. 
Y·卢梭 ;
J-L·居约克斯 ;
F·施特梅伦 .
中国专利 :CN111139436A ,2020-05-12
[7]
真空沉积设备和用于真空沉积的方法 [P]. 
韩政洹 .
中国专利 :CN104278232A ,2015-01-14
[8]
蒸发源部件及使用该部件的真空沉积装置 [P]. 
李政烈 ;
崔镕中 ;
马成乐 ;
闵卿旭 .
中国专利 :CN1940123A ,2007-04-04
[9]
用于沉积蒸发材料的沉积设备及其方法 [P]. 
托马斯·德皮希 ;
克莱尔·阿姆斯特朗 ;
弗兰克·施纳彭伯格 .
中国专利 :CN111684103A ,2020-09-18
[10]
用于沉积蒸发材料的沉积设备及其方法 [P]. 
托马斯·德皮希 ;
克莱尔·阿姆斯特朗 ;
弗兰克·施纳彭伯格 .
美国专利 :CN111684103B ,2024-04-16