真空沉积设备和用于真空沉积的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410318375.2

申请日：

2014-07-04

公开(公告)号：

CN104278232A

公开(公告)日：

2015-01-14

发明(设计)人：

韩政洹

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市

IPC主分类号：

C23C1404

IPC分类号：

C23C1454 C23C1604 C23C1652

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

王占杰;龚振宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-06-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101664478460 IPC(主分类):C23C 14/04 专利申请号:2014103183752 申请日:20140704
2015-01-14	公开	公开
2018-06-19	授权	授权

共 50 条

[1]

用于溅射沉积的沉积源和真空沉积设备 [P].

弗兰克·施纳朋伯杰 ;

托马斯·德皮施 .

中国专利 :CN208400806U ,2019-01-18

[2]

真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法 [P].

李济玩 ;

林永昌 ;

李星昊 ;

朴成镐 ;

崔完旭 ;

郑锡宪 .

中国专利 :CN102465252B ,2012-05-23

[3]

操作真空沉积装置的方法和真空沉积装置 [P].

粟田英章 ;

江村胜治 ;

吉田健太郎 .

中国专利 :CN1966757B ,2007-05-23

[4]

用于真空沉积镀层的方法和装置 [P].

古川平三郎 ;

和气完治 ;

下里省夫 ;

柳谦一 ;

加藤光雄 ;

和田哲义 ;

筑地宪夫 ;

爱甲琢哉 ;

橘高敏晴 ;

中西康二 .

中国专利 :CN85107585A ,1987-05-06

[5]

处理衬底的方法和真空沉积设备 [P].

E·舒格尔 ;

S·吉斯 .

中国专利 :CN112105754A ,2020-12-18

[6]

真空沉积方法以及真空沉积系统 [P].

高汉超 ;

王艳会 ;

谢斌平 ;

全志清 .

中国专利 :CN120519806A ,2025-08-22

[7]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

布鲁诺·施米茨 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 ;

迪迪埃·马尔内夫 .

中国专利 :CN111479950A ,2020-07-31

[8]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112262226A ,2021-01-22

[9]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

蒂亚戈·拉贝洛努内斯坎波斯 ;

奈格尔·吉拉尼 .

中国专利 :CN112272714B ,2021-01-26

[10]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112272713A ,2021-01-26

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