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用于涂覆基底的真空沉积设备和方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980039218.9
申请日
:
2019-04-23
公开(公告)号
:
CN112272714B
公开(公告)日
:
2021-01-26
发明(设计)人
:
埃里奇·西尔伯贝格
蒂亚戈·拉贝洛努内斯坎波斯
奈格尔·吉拉尼
申请人
:
申请人地址
:
卢森堡卢森堡市
IPC主分类号
:
C23C1404
IPC分类号
:
C23C1416
C23C1424
C23C1456
代理机构
:
北京允天律师事务所 11697
代理人
:
青炜
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-02-12
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/04 申请日:20190423
2021-01-26
公开
公开
2023-02-17
授权
授权
共 50 条
[1]
用于涂覆基底的真空沉积设备和方法
[P].
埃里奇·西尔伯贝格
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0
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埃里奇·西尔伯贝格
;
塞尔焦·帕切
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塞尔焦·帕切
;
雷米·邦内曼
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雷米·邦内曼
.
中国专利
:CN112272713A
,2021-01-26
[2]
真空沉积设备和用于涂覆基底的方法
[P].
埃里奇·西尔伯贝格
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埃里奇·西尔伯贝格
;
布鲁诺·施米茨
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布鲁诺·施米茨
;
塞尔焦·帕切
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塞尔焦·帕切
;
雷米·邦内曼
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雷米·邦内曼
;
迪迪埃·马尔内夫
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迪迪埃·马尔内夫
.
中国专利
:CN111479950A
,2020-07-31
[3]
真空沉积设备和用于涂覆基底的方法
[P].
埃里奇·西尔伯贝格
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埃里奇·西尔伯贝格
;
塞尔焦·帕切
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塞尔焦·帕切
;
雷米·邦内曼
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雷米·邦内曼
.
中国专利
:CN112262226A
,2021-01-22
[4]
真空沉积设备和用于涂覆基底的方法
[P].
塞尔焦·帕切
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塞尔焦·帕切
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布鲁诺·施米茨
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布鲁诺·施米茨
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迪迪埃·马尔内夫
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迪迪埃·马尔内夫
;
埃里奇·西尔伯贝格
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埃里奇·西尔伯贝格
.
中国专利
:CN112400034A
,2021-02-23
[5]
真空沉积设备和用于涂覆基底的方法
[P].
埃里奇·西尔伯贝格
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埃里奇·西尔伯贝格
;
布鲁诺·施米茨
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布鲁诺·施米茨
;
塞尔焦·帕切
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塞尔焦·帕切
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雷米·邦内曼
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雷米·邦内曼
;
迪迪埃·马尔内夫
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迪迪埃·马尔内夫
.
中国专利
:CN111479949A
,2020-07-31
[6]
真空沉积设备和用于涂覆基底的方法
[P].
埃里奇·西尔伯贝格
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机构:
安赛乐米塔尔公司
安赛乐米塔尔公司
埃里奇·西尔伯贝格
;
布鲁诺·施米茨
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安赛乐米塔尔公司
安赛乐米塔尔公司
布鲁诺·施米茨
;
塞尔焦·帕切
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安赛乐米塔尔公司
安赛乐米塔尔公司
塞尔焦·帕切
;
雷米·邦内曼
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机构:
安赛乐米塔尔公司
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雷米·邦内曼
;
迪迪埃·马尔内夫
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机构:
安赛乐米塔尔公司
安赛乐米塔尔公司
迪迪埃·马尔内夫
.
:CN111479949B
,2025-10-17
[7]
在真空中涂覆基底的方法和设备
[P].
G·L·史密斯
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0
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G·L·史密斯
.
中国专利
:CN1402800A
,2003-03-12
[8]
真空沉积设备和用于真空沉积的方法
[P].
韩政洹
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0
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韩政洹
.
中国专利
:CN104278232A
,2015-01-14
[9]
用于高速涂覆的真空沉积装置
[P].
南庆勋
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南庆勋
;
金相俊
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金相俊
;
高景弼
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高景弼
;
金兑烨
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金兑烨
;
严文钟
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严文钟
.
中国专利
:CN108474103A
,2018-08-31
[10]
真空沉积系统和在真空沉积系统中涂覆基板的方法
[P].
埃尔坎·科帕拉
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0
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0
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0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
埃尔坎·科帕拉
.
中国专利
:CN118742669A
,2024-10-01
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