在真空中涂覆基底的方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00816326.X

申请日：

2000-10-20

公开(公告)号：

CN1402800A

公开(公告)日：

2003-03-12

发明(设计)人：

G·L·史密斯

申请人：

申请人地址：

美国宾夕法尼亚州

IPC主分类号：

C23C1600

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

张兰英

法律状态：

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-12-17	专利权的终止(未缴年费专利权终止)	专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2003-03-12	公开	公开
2004-11-10	授权	授权

共 50 条

[1]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

蒂亚戈·拉贝洛努内斯坎波斯 ;

奈格尔·吉拉尼 .

中国专利 :CN112272714B ,2021-01-26

[2]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112272713A ,2021-01-26

[3]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

布鲁诺·施米茨 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 ;

迪迪埃·马尔内夫 .

中国专利 :CN111479950A ,2020-07-31

[4]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112262226A ,2021-01-22

[5]

涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法 [P].

金泰成 .

中国专利 :CN102343321A ,2012-02-08

[6]

在基底上涂覆分离剂层的方法和装置 [P].

S·库珀 .

中国专利 :CN101337220A ,2009-01-07

[7]

真空蒸镀装置和真空涂覆方法 [P].

F.马雄奇克 .

中国专利 :CN108070825A ,2018-05-25

[8]

在真空涂覆工艺中利用范德华力夹持盖板基材的方法和设备 [P].

D·R·鲍顿 ;

J·G·法根 ;

S·L·法根 .

中国专利 :CN108431288A ,2018-08-21

[9]

真空多弧涂覆设备 [P].

陈刚 ;

张浙军 ;

裴宏伟 ;

康振东 ;

邓广林 .

中国专利 :CN207958485U ,2018-10-12

[10]

用于涂覆薄层的真空处理设备 [P].

H·麦德霍夫 ;

H·许斯勒 ;

J·比尔 ;

S·昆克尔 .

中国专利 :CN1093888C ,1998-12-16

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