用于涂覆薄层的真空处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN98109736.7

申请日：

1998-04-09

公开(公告)号：

CN1093888C

公开(公告)日：

1998-12-16

发明(设计)人：

H·麦德霍夫 H·许斯勒 J·比尔 S·昆克尔

申请人：

申请人地址：

瑞士特吕巴赫

IPC主分类号：

C23C1422

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

林道棠

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-11-06	授权	授权
2012-06-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101272911124 IPC(主分类):C23C 14/22 专利号:ZL981097367 申请日:19980409 授权公告日:20021106 终止日期:20110409
2000-06-07	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
2002-06-12	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:莱博德系统股份有限公司变更后权利人:尤纳克西斯贸易公司变更事项:地址变更前权利人:联邦德国哈瑙变更后权利人:瑞士特吕巴赫登记生效日:20020411
1998-12-16	公开	公开

共 50 条

[1]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

J·拉姆 ;

B·威德里格 ;

S·卡塞曼 ;

M·D·皮门塔 ;

O·马斯勒 ;

B·汉塞尔曼 .

中国专利 :CN101743338A ,2010-06-16

[2]

用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备 [P].

倪图强 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112071733A ,2020-12-11

[3]

用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备 [P].

倪图强 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112071733B ,2024-03-12

[4]

真空处理设备和用于真空处理基底的方法 [P].

S.施维恩-托伊 ;

R.戈德 ;

M.彻西尤克 ;

M.帕德伦 .

中国专利 :CN107923037A ,2018-04-17

[5]

用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备 [P].

王凯麟 ;

左涛涛 ;

陈星建 .

中国专利 :CN209762238U ,2019-12-10

[6]

用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备 [P].

王凯麟 ;

左涛涛 ;

陈星建 .

中国专利 :CN109944943A ,2019-06-28

[7]

用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备 [P].

王凯麟 ;

左涛涛 ;

陈星建 .

中国专利 :CN109944943B ,2024-11-08

[8]

基材真空处理设备 [P].

H·哈格多恩 ;

J·皮斯特纳 ;

T·沃格特 ;

A·米勒 .

中国专利 :CN105264111A ,2016-01-20

[9]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

[10]

真空处理设备、控制真空处理设备的方法及器件制造方法 [P].

白井泰幸 .

中国专利 :CN101532582A ,2009-09-16

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