真空沉积设备和用于涂覆基底的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880080309.2

申请日：

2018-12-11

公开(公告)号：

CN111479949B

公开(公告)日：

2025-10-17

发明(设计)人：

埃里奇·西尔伯贝格布鲁诺·施米茨塞尔焦·帕切雷米·邦内曼迪迪埃·马尔内夫

申请人：

安赛乐米塔尔公司

申请人地址：

卢森堡卢森堡市

IPC主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/56

代理机构：

北京允天律师事务所 11697

代理人：

高源

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-17	授权	授权

共 50 条

[1]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

布鲁诺·施米茨 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 ;

迪迪埃·马尔内夫 .

中国专利 :CN111479949A ,2020-07-31

[2]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

布鲁诺·施米茨 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 ;

迪迪埃·马尔内夫 .

中国专利 :CN111479950A ,2020-07-31

[3]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

塞尔焦·帕切 ;

布鲁诺·施米茨 ;

迪迪埃·马尔内夫 ;

埃里奇·西尔伯贝格 .

中国专利 :CN112400034A ,2021-02-23

[4]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

蒂亚戈·拉贝洛努内斯坎波斯 ;

奈格尔·吉拉尼 .

中国专利 :CN112272714B ,2021-01-26

[5]

用于涂覆基底的真空沉积设备和方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112272713A ,2021-01-26

[6]

真空沉积设备和用于涂覆基底的方法 [P].

埃里奇·西尔伯贝格 ;

塞尔焦·帕切 ;

雷米·邦内曼 .

中国专利 :CN112262226A ,2021-01-22

[7]

用于高速涂覆的真空沉积装置 [P].

南庆勋 ;

金相俊 ;

高景弼 ;

金兑烨 ;

严文钟 .

中国专利 :CN108474103A ,2018-08-31

[8]

真空沉积设备和用于真空沉积的方法 [P].

韩政洹 .

中国专利 :CN104278232A ,2015-01-14

[9]

用于溅射沉积的沉积源和真空沉积设备 [P].

弗兰克·施纳朋伯杰 ;

托马斯·德皮施 .

中国专利 :CN208400806U ,2019-01-18

[10]

真空沉积系统和在真空沉积系统中涂覆基板的方法 [P].

埃尔坎·科帕拉 .

中国专利 :CN118742669A ,2024-10-01

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