用于材料蒸发的组件、真空沉积设备和用于材料蒸发的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080078304.3

申请日：

2020-01-07

公开(公告)号：

CN114667366B

公开(公告)日：

2024-11-29

发明(设计)人：

佩曼·哈米吉尔塞巴斯蒂安·斯塔克

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-29	授权	授权

共 50 条

[1]

用于材料蒸发的组件、真空沉积设备和用于材料蒸发的方法 [P].

佩曼·哈米吉尔 ;

塞巴斯蒂安·斯塔克 .

中国专利 :CN114667366A ,2022-06-24

[2]

用于沉积蒸发材料的蒸发源、真空沉积系统和用于沉积蒸发材料的方法 [P].

安德烈亚斯·洛普 ;

D·哈斯 .

中国专利 :CN110691861A ,2020-01-14

[3]

用于沉积已蒸发材料的蒸气源、用于蒸气源的喷嘴、真空沉积系统和用于沉积已蒸发材料的方法 [P].

迈克尔·龙 ;

安德烈亚斯·勒普 .

中国专利 :CN113166925A ,2021-07-23

[4]

用于真空沉积装置的蒸发设备及包括该蒸发设备的真空沉积装置 [P].

J·维莱特 ;

J-L·居约克斯 ;

D·埃斯特韦 .

中国专利 :CN103526163A ,2014-01-22

[5]

用于材料沉积源布置的分配组件的喷嘴、材料沉积源布置、真空沉积系统和用于沉积材料的方法 [P].

安德烈亚斯·洛普 ;

戴特尔·哈斯 .

中国专利 :CN108474102A ,2018-08-31

[6]

材料沉积布置、真空沉积系统和用于制造材料沉积布置的方法 [P].

罗华英 .

中国专利 :CN114599814A ,2022-06-07

[7]

用于真空沉积的材料沉积布置和材料分配布置 [P].

斯蒂芬·班格特 ;

安德烈亚斯·勒普 ;

托马斯·格比利 ;

乌韦·许斯勒 ;

乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 .

中国专利 :CN107002221B ,2017-08-01

[8]

真空沉积设备和用于真空沉积的方法 [P].

韩政洹 .

中国专利 :CN104278232A ,2015-01-14

[9]

材料沉积布置、真空沉积系统和沉积材料的方法 [P].

托马斯·格比利 ;

乌韦·许斯勒 ;

乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 ;

安德烈亚斯·勒普 .

中国专利 :CN107109624B ,2017-08-29

[10]

材料沉积系统和用于在材料沉积系统中沉积材料的方法 [P].

乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 ;

斯蒂芬·班格特 ;

奥利弗·海默尔 ;

迪特尔·哈斯 .

中国专利 :CN107002223B ,2017-08-01

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