微波等离子体发生装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202120501309.4

申请日：

2021-03-09

公开(公告)号：

CN214429764U

公开(公告)日：

2021-10-19

发明(设计)人：

赵义党李志强李志华廖文晗贝亮

申请人：

申请人地址：

519000 广东省珠海市横琴新区宝华路6号105室-63474（集中办公区）

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司 44202

代理人：

卢泽明

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-19	授权	授权

共 50 条

[1]

微波等离子体发生装置及等离子蚀刻设备 [P].

赵义党 ;

李志强 ;

李志华 ;

廖文晗 ;

贝亮 .

中国专利 :CN113038683A ,2021-06-25

[2]

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 [P].

中川清和 ;

宇佐美由久 .

日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07

[3]

一种等离子体反应腔、微波等离子体发生装置及系统 [P].

刘凯 ;

王少波 ;

赵士国 ;

段浩波 ;

胡永康 ;

王健 ;

朱洪硕 ;

朱浩 ;

赵玉莲 .

中国专利 :CN223527123U ,2025-11-07

[4]

用于SiC等离子体氧化的微波等离子体发生装置 [P].

刘新宇 ;

汤益丹 ;

王盛凯 ;

白云 ;

杨成樾 .

中国专利 :CN108735570A ,2018-11-02

[5]

等离子体发生装置 [P].

李海涛 .

中国专利 :CN211860639U ,2020-11-03

[6]

等离子体发生装置 [P].

何艾华 ;

庞爱锁 ;

林佳继 ;

刘群 .

中国专利 :CN220528267U ,2024-02-23

[7]

等离子体发生装置 [P].

李衎 .

中国专利 :CN2867790Y ,2007-02-07

[8]

等离子体发生装置 [P].

马明宇 ;

施国志 ;

王铭昭 ;

罗汉兵 .

中国专利 :CN221409198U ,2024-07-23

[9]

微波等离子体发生设备和等离子体炬 [P].

Z·扎科泽斯基 ;

M·穆伊桑 ;

D·介朗 ;

J-C·罗斯坦 .

中国专利 :CN101803471B ,2010-08-11

[10]

微波介质阻挡放电等离子体发生装置 [P].

徐小庆 ;

刘德政 ;

李战 .

中国专利 :CN203407059U ,2014-01-22

← 1 2 3 4 5 →