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荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201110270780.8
申请日：
2011-08-31
公开(公告)号：
CN102384924A
公开(公告)日：
2012-03-21
发明(设计)人：
长谷川清
一宫丰
泷口英树
申请人：
申请人地址：
日本千叶县千叶市
IPC主分类号：
G01N23223
IPC分类号：
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人：
何欣亭;王忠忠
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2013-08-07 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101502928653 IPC(主分类):G01N 23/223 专利申请号:2011102707808 申请日:20110831 |
| 2014-08-06 | 著录事项变更 | 著录事项变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101703676615 IPC(主分类):G01N 23/223 专利申请号:2011102707808 变更事项:申请人 变更前:精工电子纳米科技有限公司 变更后:日本株式会社日立高新技术科学 变更事项:地址 变更前:日本千叶县千叶市 变更后:日本东京都 |
| 2012-03-21 | 公开 | 公开 |
| 2015-08-12 | 授权 | 授权 |