荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410201827.2

申请日：

2024-02-23

公开(公告)号：

CN119064395A

公开(公告)日：

2024-12-03

发明(设计)人：

泉山优树

申请人：

日本株式会社日立高新技术科学

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G01N23/223

IPC分类号：

G01N23/2204

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

黄志坚

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	著录事项变更	著录事项变更IPC(主分类):G01N 23/223变更事项:申请人变更前:日本株式会社日立高新技术科学变更后:株式会社日立高新技术分析变更事项:国家或地区变更前:日本变更后:日本变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都
2024-12-03	公开	公开

共 50 条

[1]

荧光X射线分析方法及荧光X射线分析装置 [P].

寺下卫作 .

中国专利 :CN105637352A ,2016-06-01

[2]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

高原稔幸 .

中国专利 :CN105628724A ,2016-06-01

[3]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

佐久田昌博 .

中国专利 :CN103308539B ,2013-09-18

[4]

荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置 [P].

铃木桂次郎 ;

八岛志保 ;

克里恩卡莫尔·坦特拉卡恩 .

日本专利 :CN119096139A ,2024-12-06

[5]

荧光X射线分析方法和荧光X射线分析装置 [P].

佐久田昌博 ;

坂井范昭 ;

长谷川清 .

中国专利 :CN103575757A ,2014-02-12

[6]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

长谷川清 ;

一宫丰 ;

泷口英树 .

中国专利 :CN102384924A ,2012-03-21

[7]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

深井隆行 ;

的场吉毅 ;

大柿真毅 .

中国专利 :CN109459458A ,2019-03-12

[8]

荧光X射线分析装置 [P].

川上裕幸 .

日本专利 :CN118556183A ,2024-08-27

[9]

荧光X射线分析装置 [P].

佐久田昌博 ;

长谷川清 ;

的场吉毅 .

中国专利 :CN104076051A ,2014-10-01

[10]

荧光X射线分析装置 [P].

高桥春男 ;

广濑龙介 ;

八木勇夫 ;

高原稔幸 .

中国专利 :CN105277579B ,2016-01-27

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