一种高分子等离子表面真空镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721530444.1

申请日：

2017-11-16

公开(公告)号：

CN207646277U

公开(公告)日：

2018-07-24

发明(设计)人：

朱家辰何林李

申请人：

申请人地址：

325000 浙江省温州市瓯海区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器

IPC主分类号：

C23C1426

IPC分类号：

C23C1450 C23C1454

代理机构：

温州名创知识产权代理有限公司 33258

代理人：

陈加利

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-07-24	授权	授权
2019-11-05	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/26 申请日:20171116 授权公告日:20180724 终止日期:20181116

共 50 条

[1]

一种高分子等离子表面真空镀膜设备 [P].

常江 ;

常满 ;

陈国奇 ;

汪洋 .

中国专利 :CN210886196U ,2020-06-30

[2]

一种等离子表面真空镀膜设备 [P].

艾庆林 .

中国专利 :CN216155952U ,2022-04-01

[3]

一种纳米真空镀膜高分子抽离装置 [P].

江成龙 .

中国专利 :CN209702855U ,2019-11-29

[4]

改进的等离子真空镀膜装置 [P].

王百江 ;

杨宁合 .

中国专利 :CN200952035Y ,2007-09-26

[5]

一种等离子真空镀膜室 [P].

李灿民 ;

陶满 ;

陶圣全 .

中国专利 :CN202755057U ,2013-02-27

[6]

一种高分子塑胶制品真空镀膜机 [P].

谢龙飞 ;

肖双芝 ;

肖兴远 ;

刘艺 ;

肖爱华 .

中国专利 :CN222349116U ,2025-01-14

[7]

一种高分子塑胶制品真空镀膜机 [P].

王平 ;

肖玉仁 ;

肖兴远 ;

刘文群 .

中国专利 :CN216786251U ,2022-06-21

[8]

一种低温等离子真空镀膜设备及方法 [P].

王启有 .

中国专利 :CN121204619A ,2025-12-26

[9]

等离子机构和真空镀膜装置 [P].

黎裕有 .

中国专利 :CN214612721U ,2021-11-05

[10]

一种电容耦合等离子体高分子表面处理装置 [P].

詹铁锤 ;

程光周 ;

薛进 ;

刘龙威 .

中国专利 :CN208497713U ,2019-02-15

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