高纯度电解铜及其电解提纯方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310223871.5

申请日：

2013-06-06

公开(公告)号：

CN103510105B

公开(公告)日：

2014-01-15

发明(设计)人：

渡边真美中矢清隆加藤直树

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C25C112

IPC分类号：

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

康泉;王珍仙

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-01-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101594731841 IPC(主分类):C25C 1/12 专利申请号:2013102238715 申请日:20130606
2016-08-17	授权	授权
2014-01-15	公开	公开

共 50 条

[1]

高纯度电解铜 [P].

樽谷圭荣 ;

久保田贤治 ;

中矢清隆 ;

荒井公 .

中国专利 :CN110382743B ,2019-10-25

[2]

高纯度电解铜的制造方法 [P].

樽谷圭荣 ;

久保田贤治 ;

中矢清隆 ;

荒井公 .

中国专利 :CN110678582A ,2020-01-10

[3]

高纯度铜电解精炼用添加剂、高纯度铜制法及高纯度电解铜 [P].

樽谷圭荣 ;

久保田贤治 ;

中矢清隆 .

中国专利 :CN106555208A ,2017-04-05

[4]

电解铜电镀用高纯度铜阳极、其制造方法及电解铜电镀方法 [P].

中矢清隆 ;

喜多晃一 ;

熊谷训 ;

加藤直树 ;

渡边真美 .

中国专利 :CN102844472B ,2012-12-26

[5]

电解铜涂层及其制造方法，用于制造电解铜涂层的铜电解液 [P].

斋藤贵广 ;

铃木裕二 ;

伊内祥哉 ;

西川哲治 .

中国专利 :CN102105622A ,2011-06-22

[6]

电解铜箔制造用铜电解液及电解铜箔的制造方法 [P].

杉元晶子 .

中国专利 :CN1748048A ,2006-03-15

[7]

电解铜粉以及该电解铜粉的制造方法 [P].

和田润 ;

益冈佐千子 .

中国专利 :CN102009169A ,2011-04-13

[8]

电解铜镀液和电解铜镀覆方法 [P].

齐藤睦子 ;

酒井诚 ;

水野阳子 ;

森永俊幸 ;

林慎二朗 .

中国专利 :CN103774188B ,2014-05-07

[9]

电解铜的制造方法 [P].

渡边邦男 ;

佐渡惇贵 .

中国专利 :CN112654736A ,2021-04-13

[10]

电解铜的制造方法 [P].

渡边邦男 ;

佐渡惇贵 .

日本专利 :CN112654736B ,2024-01-16

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