高纯度铜电解精炼用添加剂、高纯度铜制法及高纯度电解铜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610862243.5

申请日：

2016-09-28

公开(公告)号：

CN106555208A

公开(公告)日：

2017-04-05

发明(设计)人：

樽谷圭荣久保田贤治中矢清隆

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C25C112

IPC分类号：

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

康泉;王珍仙

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-05	公开	公开
2018-05-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C25C 1/12 申请日:20160928
2020-02-07	授权	授权

共 50 条

[1]

高纯度铜电解精炼用添加剂及高纯度铜的制造方法 [P].

久保田贤治 ;

樽谷圭荣 ;

中矢清隆 .

中国专利 :CN106715761B ,2017-05-24

[2]

高纯度铜电解精炼用添加剂及高纯度铜的制造方法 [P].

樽谷圭荣 ;

久保田贤治 ;

中矢清隆 .

中国专利 :CN107075704B ,2017-08-18

[3]

高纯度铜电解精炼用添加剂和高纯度铜的制造方法 [P].

久保田贤治 ;

樽谷圭荣 ;

中矢清隆 .

中国专利 :CN106480475A ,2017-03-08

[4]

高纯度电解铜 [P].

樽谷圭荣 ;

久保田贤治 ;

中矢清隆 ;

荒井公 .

中国专利 :CN110382743B ,2019-10-25

[5]

高纯度电解铜的制造方法 [P].

樽谷圭荣 ;

久保田贤治 ;

中矢清隆 ;

荒井公 .

中国专利 :CN110678582A ,2020-01-10

[6]

高纯度电解铜及其电解提纯方法 [P].

渡边真美 ;

中矢清隆 ;

加藤直树 .

中国专利 :CN103510105B ,2014-01-15

[7]

电解铜电镀用高纯度铜阳极、其制造方法及电解铜电镀方法 [P].

中矢清隆 ;

喜多晃一 ;

熊谷训 ;

加藤直树 ;

渡边真美 .

中国专利 :CN102844472B ,2012-12-26

[8]

高纯度银电解工艺 [P].

曹训勇 ;

曹生文 ;

曹金林 ;

曹训朵 ;

李应华 .

中国专利 :CN1974860B ,2007-06-06

[9]

超高纯度铜及其制造方法以及含有超高纯度铜的焊线 [P].

新藤裕一朗 ;

竹本幸一 .

中国专利 :CN100567532C ,2008-06-11

[10]

铜电解液添加剂、铜电解精炼方法及阴极铜 [P].

曹敏 ;

孙宁磊 ;

秦丽娟 ;

付国燕 ;

李明川 ;

刘国 .

中国专利 :CN113235133B ,2021-08-10

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