X射线曝光系统的曝光控制方法、系统及可读存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810499503.6

申请日：

2018-05-22

公开(公告)号：

CN108852393A

公开(公告)日：

2018-11-23

发明(设计)人：

吴磊李晓磊王安山张佳吴光研

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市南山区桃源街道龙井村龙井高新科技金谷创业园C栋7楼

IPC主分类号：

A61B600

IPC分类号：

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287

代理人：

胡海国;唐文波

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-07	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):A61B 6/00 变更事项:发明人变更前:吴磊李晓磊王安山张佳吴光研变更后:李晓磊王安山
2018-11-23	公开	公开
2018-12-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/00 申请日:20180522

共 50 条

[1]

曝光系统、曝光系统的控制装置以及曝光系统的控制方法 [P].

大畑公孝 ;

木村忠信 ;

大河原直人 .

中国专利 :CN103999192A ,2014-08-20

[2]

X射线曝光控制系统 [P].

张振 .

中国专利 :CN208926396U ,2019-06-04

[3]

X射线曝光检测方法及X射线曝光检测系统 [P].

许肇驿 ;

陈彦宇 ;

黄正义 .

中国专利 :CN115561797A ,2023-01-03

[4]

曝光参数同步方法、X射线摄像系统及可读存储介质 [P].

谭海龙 ;

王安山 ;

钟富生 ;

熊志良 .

中国专利 :CN112057093B ,2020-12-11

[5]

X射线曝光控制系统及其控制方法 [P].

张振 .

中国专利 :CN109833051B ,2024-10-15

[6]

X射线曝光控制系统及其控制方法 [P].

张振 .

中国专利 :CN109833051A ,2019-06-04

[7]

曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质 [P].

胡炳煌 .

中国专利 :CN107422615B ,2017-12-01

[8]

曝光剂量控制系统及曝光系统 [P].

侯宝路 ;

王彩红 .

中国专利 :CN115128907A ,2022-09-30

[9]

曝光系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

川上雄介 ;

布川泰辉 .

中国专利 :CN113574459A ,2021-10-29

[10]

曝光控制方法、曝光控制装置及存储介质 [P].

苗敏婧 ;

居彩霞 ;

董鹏宇 ;

徐磊 .

中国专利 :CN117768787A ,2024-03-26

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