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光谱分析装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202121340567.5
申请日
:
2021-06-16
公开(公告)号
:
CN214951801U
公开(公告)日
:
2021-11-30
发明(设计)人
:
张鸿
覃秋军
黄志雷
王宇
申请人
:
申请人地址
:
100083 北京市海淀区王庄路1号清华同方科技大厦D座西楼2211
IPC主分类号
:
G01J328
IPC分类号
:
H04N576
代理机构
:
北京唐颂永信知识产权代理有限公司 11755
代理人
:
刘伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-30
授权
授权
共 50 条
[1]
光谱分析装置和光谱视频录制方法
[P].
张鸿
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张鸿
;
覃秋军
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覃秋军
;
黄志雷
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黄志雷
;
王宇
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王宇
.
中国专利
:CN115479668A
,2022-12-16
[2]
光谱分析装置和光谱视频录制方法
[P].
张鸿
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机构:
北京与光科技有限公司
北京与光科技有限公司
张鸿
;
覃秋军
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机构:
北京与光科技有限公司
北京与光科技有限公司
覃秋军
;
黄志雷
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机构:
北京与光科技有限公司
北京与光科技有限公司
黄志雷
;
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机构:
王宇
.
中国专利
:CN115479668B
,2025-07-04
[3]
光谱分析装置、光谱分析系统和光谱分析方法
[P].
林田纯弥
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
林田纯弥
;
柿下容弓
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
柿下容弓
;
服部英春
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
服部英春
;
堀入纯
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
堀入纯
.
日本专利
:CN120112781A
,2025-06-06
[4]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
冯胜
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冯胜
.
中国专利
:CN115343227A
,2022-11-15
[5]
光谱分析用池、光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
上野楠夫
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
上野楠夫
;
村上达希
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
村上达希
;
箕轮大辉
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
箕轮大辉
.
日本专利
:CN121057932A
,2025-12-02
[6]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
西村克美
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西村克美
.
中国专利
:CN107367469B
,2017-11-21
[7]
光谱分析系统
[P].
韩旭
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
韩旭
;
史坦
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苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
史坦
;
戴安丽
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苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
戴安丽
;
范鸿杰
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
范鸿杰
.
中国专利
:CN118408887A
,2024-07-30
[8]
光谱分析装置
[P].
村山广大
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村山广大
;
杉野弘幸
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杉野弘幸
;
渡边芙美枝
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渡边芙美枝
;
伊东笃志
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伊东笃志
.
中国专利
:CN111542747A
,2020-08-14
[9]
光谱分析装置
[P].
杨素萍
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杨素萍
;
曾维蒸
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曾维蒸
;
程松
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程松
;
张鸿
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张鸿
.
中国专利
:CN306971539S
,2021-11-30
[10]
光谱分析装置
[P].
王建平
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王建平
;
王志新
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王志新
;
邱小龙
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邱小龙
;
潘腾飞
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潘腾飞
;
张淞
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张淞
.
中国专利
:CN212255051U
,2020-12-29
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