放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010198420.7

申请日：

2010-06-07

公开(公告)号：

CN101907828B

公开(公告)日：

2010-12-08

发明(设计)人：

上田二朗高濑英明藤冈昌泰露木亮太

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F7075

IPC分类号：

G02F11362 G03F700

代理机构：

北京三幸商标专利事务所 11216

代理人：

刘激扬

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-12-08	公开	公开
2013-10-16	授权	授权
2012-03-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101211709747 IPC(主分类):G03F 7/075 专利申请号:2010101984207 申请日:20100607

共 50 条

[1]

放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法 [P].

上田二朗 ;

藤冈昌泰 ;

露木亮太 .

中国专利 :CN102053493B ,2011-05-11

[2]

正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法 [P].

一户大吾 ;

花村政晓 .

中国专利 :CN102043339A ,2011-05-04

[3]

正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法 [P].

一户大吾 ;

花村政晓 .

中国专利 :CN102156386A ,2011-08-17

[4]

正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法 [P].

一户大吾 .

中国专利 :CN102221782A ,2011-10-19

[5]

放射线敏感性树脂组合物以及层间绝缘膜的形成方法 [P].

菊池克浩 ;

臼井健太朗 ;

柴崎正和 ;

越智贵志 ;

加藤龙郎 ;

滨田谦一 ;

荒井雅史 ;

M.村田 ;

高濑英明 .

中国专利 :CN102549496A ,2012-07-04

[6]

显示元件用放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜、保护膜和隔片以及它们的形成方法 [P].

米田英司 ;

西信弘 ;

儿玉诚一郎 ;

猪俣克巳 .

中国专利 :CN102236259A ,2011-11-09

[7]

正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法 [P].

一户大吾 .

中国专利 :CN102221781A ,2011-10-19

[8]

正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法 [P].

一户大吾 .

中国专利 :CN102213918B ,2011-10-12

[9]

放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法 [P].

西信弘 ;

米田英司 ;

饭田雅史 ;

丸山拓之 ;

滨田谦一 .

中国专利 :CN101859067A ,2010-10-13

[10]

正型放射线敏感性组合物、固化膜、层间绝缘膜及其形成方法、显示元件以及硅氧烷聚合物 [P].

一户大吾 ;

花村政晓 ;

高濑英明 .

中国专利 :CN101937172B ,2011-01-05

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