一种光刻胶背面曝光工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210013655.3

申请日：

2012-01-16

公开(公告)号：

CN102566313A

公开(公告)日：

2012-07-11

发明(设计)人：

廖广兰谭先华史铁林刘文亮高阳

申请人：

申请人地址：

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

华中科技大学专利中心 42201

代理人：

曹葆青

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101324735529 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012100136553 申请日:20120116
2012-07-11	公开	公开
2014-08-27	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101704523217 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012100136553 申请公布日:20120711

共 50 条

[1]

光刻胶曝光装置 [P].

闫晓剑 ;

田朝勇 .

中国专利 :CN103576469A ,2014-02-12

[2]

一种光刻胶以及曝光方法 [P].

刘宁 ;

周斌 ;

胡迎宾 ;

苏同上 .

中国专利 :CN108594607A ,2018-09-28

[3]

一种光刻胶及其光刻工艺 [P].

王国秋 ;

黄坚 ;

陈璀 .

中国专利 :CN111983890A ,2020-11-24

[4]

一种光刻胶及其光刻工艺 [P].

王国秋 ;

黄坚 ;

陈璀 .

中国专利 :CN111983890B ,2024-03-22

[5]

一种光刻胶定域曝光装置 [P].

李兴旺 ;

黄诗福 ;

周明强 ;

凌吉武 .

中国专利 :CN218497341U ,2023-02-17

[6]

一种光刻胶、光刻胶应用以及应用工艺 [P].

丁德锐 ;

杨艳 ;

伍佩铭 .

中国专利 :CN117572722A ,2024-02-20

[7]

正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114460810A ,2022-05-10

[8]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469A ,2022-04-29

[9]

聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114539518A ,2022-05-27

[10]

光刻版图、光刻胶图形及测量光刻胶图形曝光误差的方法 [P].

岳力挽 ;

赵新民 ;

周孟兴 ;

王彩虹 .

中国专利 :CN102809895B ,2012-12-05

← 1 2 3 4 5 →