一种光刻胶、光刻胶应用以及应用工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311547650.3

申请日：

2023-11-20

公开(公告)号：

CN117572722A

公开(公告)日：

2024-02-20

发明(设计)人：

丁德锐杨艳伍佩铭

申请人：

乾宇微纳技术（深圳）有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市光明区凤凰街道塘尾社区恒泰裕大厦1栋514-2

IPC主分类号：

G03F7/033

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/00

代理机构：

深圳利联知识产权代理事务所(普通合伙) 44866

代理人：

蒋勇华

法律状态：

公开

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-20	公开	公开
2024-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/033申请日:20231120

共 50 条

[1]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469A ,2022-04-29

[2]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469B ,2024-06-11

[3]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[4]

光刻胶及其制备方法与应用 [P].

周徐 ;

徐国强 ;

黄耀鹏 ;

徐海生 .

中国专利 :CN105573057A ,2016-05-11

[5]

一种光刻胶 [P].

钟亮 ;

刘翘楚 ;

黄康 .

中国专利 :CN104865794A ,2015-08-26

[6]

一种负性光刻胶 [P].

尤慧 ;

顾奇 ;

王胜林 .

中国专利 :CN106886128B ,2017-06-23

[7]

负性光刻胶组合物及应用 [P].

赵呈 ;

吕亮 ;

何俊 .

中国专利 :CN120215210A ,2025-06-27

[8]

正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114460810A ,2022-05-10

[9]

一种负性光刻胶及其制备方法和应用 [P].

卞玉桂 ;

张志强 ;

顾后荻 ;

杨彦 ;

安杨翔 ;

陆晓健 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

徐栋 .

中国专利 :CN117631454A ,2024-03-01

[10]

一种光刻胶组合物及光刻胶图案化方法 [P].

李弋舟 ;

江启明 ;

邓辉 ;

李铁峰 .

中国专利 :CN118466115A ,2024-08-09

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