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一种氧化均匀的半导体加工系统
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202021039561.X
申请日：
2020-06-09
公开(公告)号：
CN212587455U
公开(公告)日：
2021-02-23
发明(设计)人：
苏宇
申请人：
申请人地址：
236000 安徽省亳州市利辛县城关镇蒋庄居委会苏大庄3户
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-05-27 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200609 授权公告日:20210223 终止日期:20210609 |
| 2021-02-23 | 授权 | 授权 |