位置修正装置、真空处理装置以及位置修正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680022769.7

申请日：

2006-06-22

公开(公告)号：

CN101208791B

公开(公告)日：

2008-06-25

发明(设计)人：

藤井佳词

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

H01L2168

IPC分类号：

B65G4907

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

温大鹏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-12-08	授权	授权
2008-06-25	公开	公开
2008-08-20	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

位置修正装置、位置修正方法以及位置修正程序 [P].

渡边辅祐太 .

日本专利 :CN119731550A ,2025-03-28

[2]

示教位置修正装置以及示教位置修正方法 [P].

伴一训 ;

管野一郎 ;

沈岗 ;

泷泽克俊 .

中国专利 :CN101036984B ,2007-09-19

[3]

示教位置修正装置和示教位置修正方法 [P].

小洼恭平 .

中国专利 :CN108994876A ,2018-12-14

[4]

自身位置修正方法及自身位置修正装置 [P].

野尻隆宏 .

中国专利 :CN113795726B ,2021-12-14

[5]

导线位置修正方法及导线位置修正装置 [P].

中岛纯二 ;

恩田英明 .

中国专利 :CN113497531A ,2021-10-12

[6]

导线位置修正方法及导线位置修正装置 [P].

中岛纯二 ;

恩田英明 .

日本专利 :CN113497531B ,2025-08-26

[7]

位置修正装置、真空処理装置、及び位置修正方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006137476A1 ,2009-01-22

[8]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

前平谦 ;

铃木大地 ;

真濑江理子 ;

不破耕 .

中国专利 :CN103733318A ,2014-04-16

[9]

真空处理装置以及真空处理方法 [P].

仲田辉男 ;

野木庆太 ;

井上智己 ;

川口道则 .

中国专利 :CN102800615A ,2012-11-28

[10]

位置修正装置、位置修正方法、及び位置修正プログラム[ja] [P].

日本专利 :JP7573793B2 ,2024-10-25

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