无应力电化学抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510251140.0

申请日：

2015-05-18

公开(公告)号：

CN106245108B

公开(公告)日：

2016-12-21

发明(设计)人：

代迎伟金一诺王坚王晖

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢

IPC主分类号：

C25F330

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

施浩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-05-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C25F 3/30 申请日:20150518
2020-04-24	授权	授权
2016-12-21	公开	公开
2020-03-24	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):C25F 3/30 变更事项:申请人变更前:盛美半导体设备(上海)有限公司变更后:盛美半导体设备(上海)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区中国上海张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢变更后:201203 上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢

共 50 条

[1]

无应力电化学抛光用喷嘴 [P].

王坚 ;

金一诺 ;

王晖 .

中国专利 :CN104170064A ,2014-11-26

[2]

电化学抛光设备 [P].

杨宏超 ;

金一诺 ;

张怀东 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN105316755A ,2016-02-10

[3]

支架电化学抛光装置 [P].

蔡蒙 ;

梅森 ;

沈丹鸿 .

中国专利 :CN223226221U ,2025-08-15

[4]

电化学抛光用柔性电极及内腔结构电化学抛光方法 [P].

叶作彦 ;

叶敏恒 ;

王利利 ;

潘金龙 ;

李晓媛 ;

王超 ;

沈显峰 .

中国专利 :CN113089073B ,2021-07-09

[5]

电化学抛光装置 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN203174217U ,2013-09-04

[6]

一种电化学抛光方法与电化学抛光装置 [P].

邓辉 .

中国专利 :CN107488872B ,2017-12-19

[7]

电化学抛光装置 [P].

向城 ;

刁宇新 ;

叶知春 .

中国专利 :CN217839194U ,2022-11-18

[8]

电化学抛光装置 [P].

于丽 .

中国专利 :CN216738622U ,2022-06-14

[9]

电化学抛光铝的工艺 [P].

黄爱华 .

中国专利 :CN108588812A ,2018-09-28

[10]

电化学抛光装置及其抛光方法 [P].

姚昊 ;

姚斌 .

中国专利 :CN120776431A ,2025-10-14

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