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化学增强的光刻胶
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN98120186.5
申请日
:
1998-10-23
公开(公告)号
:
CN1220414A
公开(公告)日
:
1999-06-23
发明(设计)人
:
井谷俊郎
申请人
:
申请人地址
:
日本国东京都
IPC主分类号
:
G03F700
IPC分类号
:
代理机构
:
中科专利代理有限责任公司
代理人
:
严舫
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
1999-06-23
公开
公开
1999-05-26
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
2004-12-22
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2003-06-04
授权
授权
共 50 条
[1]
化学增强的光刻胶
[P].
井谷俊郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
井谷俊郎
.
中国专利
:CN1193753A
,1998-09-23
[2]
化学增强的光刻胶
[P].
井谷俊郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
井谷俊郎
.
中国专利
:CN1193128A
,1998-09-16
[3]
化学增强型光刻胶
[P].
山名慎治
论文数:
0
引用数:
0
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0
山名慎治
.
中国专利
:CN1268679A
,2000-10-04
[4]
化学增强型正光刻胶组合物
[P].
难波克彦
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0
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0
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0
难波克彦
;
中西润次
论文数:
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0
中西润次
;
上谷保则
论文数:
0
引用数:
0
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0
上谷保则
.
中国专利
:CN1321351C
,2002-08-28
[5]
化学增强光刻胶及一种光刻胶组合物
[P].
金德倍
论文数:
0
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0
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0
金德倍
;
金炫辰
论文数:
0
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0
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金炫辰
;
崔容准
论文数:
0
引用数:
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崔容准
;
郑允植
论文数:
0
引用数:
0
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0
郑允植
.
中国专利
:CN1223902C
,2003-06-11
[6]
一种化学放大型正性光刻胶
[P].
赵倩
论文数:
0
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0
h-index:
0
机构:
阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司
阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司
赵倩
.
中国专利
:CN120255280A
,2025-07-04
[7]
化学增强型光刻胶组合物
[P].
高田佳幸
论文数:
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0
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高田佳幸
;
吉田勋
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0
吉田勋
;
中西弘俊
论文数:
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中西弘俊
.
中国专利
:CN100565340C
,2004-04-14
[8]
化学增强型光刻胶组合物
[P].
高田佳幸
论文数:
0
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0
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0
高田佳幸
;
吉田勋
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0
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0
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吉田勋
;
中西弘俊
论文数:
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0
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0
中西弘俊
.
中国专利
:CN1963667B
,2007-05-16
[9]
一种正性化学放大光刻胶树脂、制备方法及光刻胶
[P].
纪学顺
论文数:
0
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0
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机构:
万华化学集团股份有限公司
万华化学集团股份有限公司
纪学顺
;
蒋志强
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机构:
万华化学集团股份有限公司
万华化学集团股份有限公司
蒋志强
;
马吉全
论文数:
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机构:
万华化学集团股份有限公司
万华化学集团股份有限公司
马吉全
.
中国专利
:CN120775098A
,2025-10-14
[10]
光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法
[P].
山名慎治
论文数:
0
引用数:
0
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0
山名慎治
.
中国专利
:CN1356594A
,2002-07-03
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