化学增强的光刻胶

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN98120186.5
申请日
1998-10-23
公开(公告)号
CN1220414A
公开(公告)日
1999-06-23
发明(设计)人
井谷俊郎
申请人
申请人地址
日本国东京都
IPC主分类号
G03F700
IPC分类号
代理机构
中科专利代理有限责任公司
代理人
严舫
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
化学增强的光刻胶 [P]. 
井谷俊郎 .
中国专利 :CN1193753A ,1998-09-23
[2]
化学增强的光刻胶 [P]. 
井谷俊郎 .
中国专利 :CN1193128A ,1998-09-16
[3]
化学增强型光刻胶 [P]. 
山名慎治 .
中国专利 :CN1268679A ,2000-10-04
[4]
化学增强型正光刻胶组合物 [P]. 
难波克彦 ;
中西润次 ;
上谷保则 .
中国专利 :CN1321351C ,2002-08-28
[5]
化学增强光刻胶及一种光刻胶组合物 [P]. 
金德倍 ;
金炫辰 ;
崔容准 ;
郑允植 .
中国专利 :CN1223902C ,2003-06-11
[6]
一种化学放大型正性光刻胶 [P]. 
赵倩 .
中国专利 :CN120255280A ,2025-07-04
[7]
化学增强型光刻胶组合物 [P]. 
高田佳幸 ;
吉田勋 ;
中西弘俊 .
中国专利 :CN100565340C ,2004-04-14
[8]
化学增强型光刻胶组合物 [P]. 
高田佳幸 ;
吉田勋 ;
中西弘俊 .
中国专利 :CN1963667B ,2007-05-16
[9]
一种正性化学放大光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P]. 
纪学顺 ;
蒋志强 ;
马吉全 .
中国专利 :CN120775098A ,2025-10-14
[10]
光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法 [P]. 
山名慎治 .
中国专利 :CN1356594A ,2002-07-03