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等离子体处理方法和等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201380051554.8
申请日
:
2013-10-31
公开(公告)号
:
CN104704612A
公开(公告)日
:
2015-06-10
发明(设计)人
:
小川和人
中川显
小西英纪
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L213065
IPC分类号
:
H01L21336
H01L218247
H01L27115
H01L29788
H01L29792
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-06-10
公开
公开
2016-11-30
授权
授权
2015-07-08
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616033623 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利申请号:2013800515548 申请日:20131031
共 50 条
[1]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
李诚泰
论文数:
0
引用数:
0
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0
李诚泰
;
土桥和也
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土桥和也
.
中国专利
:CN102347231B
,2012-02-08
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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0
舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松本直树
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0
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0
松本直树
;
舆水地盐
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舆水地盐
;
舆石公
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舆石公
.
中国专利
:CN100446637C
,2006-10-04
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN101847558B
,2010-09-29
[5]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
向山广记
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
向山广记
;
户村幕树
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
户村幕树
;
木原嘉英
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
木原嘉英
;
福井信志
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
福井信志
.
日本专利
:CN118284956A
,2024-07-02
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
东条利洋
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东条利洋
;
藤井祐希
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藤井祐希
.
中国专利
:CN107275179A
,2017-10-20
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
堀口贵弘
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堀口贵弘
;
冈信介
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冈信介
.
中国专利
:CN100536634C
,2006-11-15
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
金子和史
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0
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0
金子和史
.
中国专利
:CN114302547A
,2022-04-08
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山泽阳平
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山泽阳平
;
齐藤昌司
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齐藤昌司
;
传宝一树
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传宝一树
;
輿水地盐
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輿水地盐
;
山涌纯
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山涌纯
.
中国专利
:CN102056396A
,2011-05-11
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
塚原利也
;
山边周平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山边周平
;
谷地晃汰
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
谷地晃汰
;
佐藤徹治
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
内田阳平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
铃木步太
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木步太
;
田村洋典
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田村洋典
;
花冈秀敏
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木淳一
.
日本专利
:CN111261511B
,2024-06-18
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