静电基板支撑件几何形状的抛光

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880057686.4

申请日：

2018-07-17

公开(公告)号：

CN111052317A

公开(公告)日：

2020-04-21

发明(设计)人：

小温德尔·G·博伊德 J·Z·何

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

H01L21683 H01L21687 H01L2102 H01L2167

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

侯颖媖;张鑫

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20180717
2020-04-21	公开	公开

共 50 条

[1]

基板支撑件 [P].

考希克·饶 ;

戈文达·瑞泽 ;

阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦 ;

桑托斯·库马尔·皮拉帕 .

中国专利 :CN210443540U ,2020-05-01

[2]

具有双嵌入式电极的基板支撑件 [P].

赵在龙 ;

P·A·克劳斯 .

中国专利 :CN110998783B ,2020-04-10

[3]

加热的基板支撑件 [P].

戈文达·瑞泽 .

中国专利 :CN110010516A ,2019-07-12

[4]

具有多个电极的半导体基板支撑件及其制造方法 [P].

迈克尔·派克 .

美国专利 :CN111357089B ,2024-01-23

[5]

具有多个电极的半导体基板支撑件及其制造方法 [P].

迈克尔·派克 .

中国专利 :CN111357089A ,2020-06-30

[6]

用于增材制造支撑件移除的调谐支撑件几何形状及其使用方法 [P].

戈登·塔伊里 ;

迈克尔·托马斯·肯沃西 .

美国专利 :CN120344335A ,2025-07-18

[7]

用于沉积腔室的基板支撑件设计 [P].

考希克·饶 ;

戈文达·瑞泽 ;

阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦 ;

桑托斯·库马尔·皮拉帕 .

美国专利 :CN111092043B ,2025-01-24

[8]

用于沉积腔室的基板支撑件设计 [P].

考希克·饶 ;

戈文达·瑞泽 ;

阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦 ;

桑托斯·库马尔·皮拉帕 .

美国专利 :CN120015685A ,2025-05-16

[9]

用于沉积腔室的基板支撑件设计 [P].

考希克·饶 ;

戈文达·瑞泽 ;

阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦 ;

桑托斯·库马尔·皮拉帕 .

中国专利 :CN111092043A ,2020-05-01

[10]

基板支撑件 [P].

丛者澎 ;

尼欧·谬 ;

陈辉 ;

H·D·阮 ;

陈少峰 ;

栾欣宁 ;

柯克·艾伦·费希尔 ;

艾梅·S·埃尔哈特 ;

肖恩·约瑟夫·博纳姆 ;

菲利普·迈克尔·阿莫斯 ;

詹姆斯·M·阿莫斯 .

美国专利 :CN117981069A ,2024-05-03

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