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用于沉积腔室的基板支撑件设计
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510082594.3
申请日
:
2019-08-05
公开(公告)号
:
CN120015685A
公开(公告)日
:
2025-05-16
发明(设计)人
:
考希克·饶
戈文达·瑞泽
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
桑托斯·库马尔·皮拉帕
申请人
:
应用材料公司
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01L21/683
IPC分类号
:
H01L21/67
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
:
徐金国;吴启超
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-03
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/683申请日:20190805
2025-05-16
公开
公开
共 50 条
[1]
用于沉积腔室的基板支撑件设计
[P].
考希克·饶
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
考希克·饶
;
戈文达·瑞泽
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应用材料公司
应用材料公司
戈文达·瑞泽
;
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
;
桑托斯·库马尔·皮拉帕
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
桑托斯·库马尔·皮拉帕
.
美国专利
:CN111092043B
,2025-01-24
[2]
用于沉积腔室的基板支撑件设计
[P].
考希克·饶
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考希克·饶
;
戈文达·瑞泽
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戈文达·瑞泽
;
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
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阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
;
桑托斯·库马尔·皮拉帕
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桑托斯·库马尔·皮拉帕
.
中国专利
:CN111092043A
,2020-05-01
[3]
用于基板处理腔室的基板支撑件
[P].
梁志修
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
梁志修
;
迈克尔·斯特林·杰克逊
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
迈克尔·斯特林·杰克逊
;
吕疆
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
吕疆
;
振雄蔡
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应用材料公司
应用材料公司
振雄蔡
;
松下智治
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
松下智治
;
黄祖滨
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
黄祖滨
.
美国专利
:CN308962345S
,2024-11-22
[4]
用于基板处理腔室的基板支撑件
[P].
梁志修
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
梁志修
;
迈克尔·斯特林·杰克逊
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
迈克尔·斯特林·杰克逊
;
吕疆
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应用材料公司
应用材料公司
吕疆
;
振雄蔡
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
振雄蔡
;
松下智治
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
松下智治
;
黄祖滨
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
黄祖滨
.
美国专利
:CN308496320S
,2024-03-05
[5]
用于沉积腔室的基板支撑夹盘冷却
[P].
布赖恩·韦斯特
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布赖恩·韦斯特
;
维贾伊·帕克赫
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维贾伊·帕克赫
;
罗伯特·海拉哈拉
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罗伯特·海拉哈拉
;
丹·戴永
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丹·戴永
.
中国专利
:CN105027274A
,2015-11-04
[6]
用于沉积腔室的基板支撑夹盘冷却
[P].
布赖恩·韦斯特
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布赖恩·韦斯特
;
维贾伊·帕克赫
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维贾伊·帕克赫
;
罗伯特·海拉哈拉
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罗伯特·海拉哈拉
;
丹·戴永
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丹·戴永
.
中国专利
:CN108505010B
,2018-09-07
[7]
基板支撑件
[P].
考希克·饶
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0
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考希克·饶
;
戈文达·瑞泽
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戈文达·瑞泽
;
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
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阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
;
桑托斯·库马尔·皮拉帕
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桑托斯·库马尔·皮拉帕
.
中国专利
:CN210443540U
,2020-05-01
[8]
基板支撑件和处理腔室
[P].
金·拉姆库马尔·韦洛尔
论文数:
0
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0
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
金·拉姆库马尔·韦洛尔
.
美国专利
:CN222139349U
,2024-12-10
[9]
基板支撑件、处理腔室和用于在真空处理腔室中从基板支撑件升降基板的升降销
[P].
小温德尔·格伦·博伊德
论文数:
0
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0
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小温德尔·格伦·博伊德
;
戈文达·瑞泽
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0
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0
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戈文达·瑞泽
;
马修·詹姆斯·巴斯彻
论文数:
0
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0
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马修·詹姆斯·巴斯彻
.
中国专利
:CN206610799U
,2017-11-03
[10]
滚轮衬套与用于处理腔室的基板支撑件
[P].
A·波利亚克
论文数:
0
引用数:
0
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A·波利亚克
.
中国专利
:CN204361070U
,2015-05-27
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