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基板支撑件和处理腔室
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202290000643.4
申请日
:
2022-07-13
公开(公告)号
:
CN222139349U
公开(公告)日
:
2024-12-10
发明(设计)人
:
金·拉姆库马尔·韦洛尔
申请人
:
应用材料公司
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
C30B25/12
IPC分类号
:
C23C16/458
H01L21/687
H01L21/67
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
:
徐金国;吴启超
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-10
授权
授权
共 50 条
[1]
用于基板处理腔室的基板支撑件
[P].
梁志修
论文数:
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0
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
梁志修
;
迈克尔·斯特林·杰克逊
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应用材料公司
应用材料公司
迈克尔·斯特林·杰克逊
;
吕疆
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应用材料公司
应用材料公司
吕疆
;
振雄蔡
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应用材料公司
应用材料公司
振雄蔡
;
松下智治
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
松下智治
;
黄祖滨
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
黄祖滨
.
美国专利
:CN308962345S
,2024-11-22
[2]
用于基板处理腔室的基板支撑件
[P].
梁志修
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应用材料公司
应用材料公司
梁志修
;
迈克尔·斯特林·杰克逊
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应用材料公司
应用材料公司
迈克尔·斯特林·杰克逊
;
吕疆
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应用材料公司
应用材料公司
吕疆
;
振雄蔡
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
振雄蔡
;
松下智治
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
松下智治
;
黄祖滨
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
黄祖滨
.
美国专利
:CN308496320S
,2024-03-05
[3]
基板支撑件、处理腔室和用于在真空处理腔室中从基板支撑件升降基板的升降销
[P].
小温德尔·格伦·博伊德
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小温德尔·格伦·博伊德
;
戈文达·瑞泽
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戈文达·瑞泽
;
马修·詹姆斯·巴斯彻
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马修·詹姆斯·巴斯彻
.
中国专利
:CN206610799U
,2017-11-03
[4]
滚轮衬套与用于处理腔室的基板支撑件
[P].
A·波利亚克
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A·波利亚克
.
中国专利
:CN204361070U
,2015-05-27
[5]
基板处理腔室
[P].
J·约德伏斯基
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J·约德伏斯基
;
K·格里芬
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K·格里芬
.
中国专利
:CN206516610U
,2017-09-22
[6]
重叠的基板支撑件和预热环以及相关工艺套件、处理腔室、方法和部件
[P].
丛者澎
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
丛者澎
;
尼姆罗德·史密斯
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
尼姆罗德·史密斯
;
盛涛
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应用材料公司
应用材料公司
盛涛
;
吴贞莹
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应用材料公司
应用材料公司
吴贞莹
;
陈辉
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应用材料公司
应用材料公司
陈辉
;
栾欣宁
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
栾欣宁
.
美国专利
:CN120858207A
,2025-10-28
[7]
用于处理腔室的基板支撑件的处理套组环
[P].
V·N·托多罗
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V·N·托多罗
;
S·巴纳
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S·巴纳
;
I·优素福
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I·优素福
;
A·王
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A·王
;
G·勒雷
论文数:
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G·勒雷
.
中国专利
:CN204206596U
,2015-03-11
[8]
定向腔室及处理基板的方法
[P].
洪伟华
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洪伟华
.
中国专利
:CN110660706B
,2020-01-07
[9]
用于沉积腔室的基板支撑件设计
[P].
考希克·饶
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
考希克·饶
;
戈文达·瑞泽
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
戈文达·瑞泽
;
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
;
桑托斯·库马尔·皮拉帕
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
桑托斯·库马尔·皮拉帕
.
美国专利
:CN111092043B
,2025-01-24
[10]
用于沉积腔室的基板支撑件设计
[P].
考希克·饶
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应用材料公司
应用材料公司
考希克·饶
;
戈文达·瑞泽
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
戈文达·瑞泽
;
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
阿努巴霍夫·斯利瓦斯塔瓦
;
桑托斯·库马尔·皮拉帕
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
桑托斯·库马尔·皮拉帕
.
美国专利
:CN120015685A
,2025-05-16
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