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碳膜生长工艺
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN98805277.6
申请日
:
1998-05-20
公开(公告)号
:
CN1260847A
公开(公告)日
:
2000-07-19
发明(设计)人
:
兹维·彦尼夫
理查德·L·芬克
芝丹·L·托尔特
申请人
:
申请人地址
:
美国得克萨斯
IPC主分类号
:
C30B2304
IPC分类号
:
C30B2504
C30B2904
代理机构
:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人
:
王永刚
法律状态
:
实质审查请求的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2000-08-23
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
2004-10-06
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2000-07-19
公开
公开
共 50 条
[1]
单晶铜生长工艺
[P].
沈承刚
论文数:
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沈承刚
;
沈琨
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沈琨
;
沈振宇
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沈振宇
;
毕少东
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毕少东
.
中国专利
:CN113802176A
,2021-12-17
[2]
外延生长工艺
[P].
李睿
论文数:
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
李睿
;
曹志伟
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
曹志伟
;
张召
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
张召
;
余文达
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
余文达
;
尹佳玲
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
尹佳玲
;
刘悦
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
刘悦
;
范永胜
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
范永胜
;
蔡靖凯
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
蔡靖凯
;
吴成志
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
吴成志
.
中国专利
:CN121148987A
,2025-12-16
[3]
金属的生长工艺
[P].
许爱春
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许爱春
;
李远
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李远
;
彭浩
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彭浩
;
左明光
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左明光
;
詹侃
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詹侃
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唐浩
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唐浩
;
万先进
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万先进
;
郁赛华
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郁赛华
.
中国专利
:CN107978520A
,2018-05-01
[4]
石墨烯生长工艺
[P].
罗西塔·雅基莫娃
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罗西塔·雅基莫娃
;
蒂霍米尔·雅基莫夫
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蒂霍米尔·雅基莫夫
;
米克尔·叙韦耶尔维
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米克尔·叙韦耶尔维
.
中国专利
:CN103097283B
,2013-05-08
[5]
PLC晶圆上包层厚膜生长工艺
[P].
高志豪
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河南仕佳光子科技股份有限公司
河南仕佳光子科技股份有限公司
高志豪
;
胡炎彰
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河南仕佳光子科技股份有限公司
河南仕佳光子科技股份有限公司
胡炎彰
;
耿金帅
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河南仕佳光子科技股份有限公司
河南仕佳光子科技股份有限公司
耿金帅
;
孙健
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河南仕佳光子科技股份有限公司
河南仕佳光子科技股份有限公司
孙健
;
杨建周
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河南仕佳光子科技股份有限公司
河南仕佳光子科技股份有限公司
杨建周
;
苏晓华
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机构:
河南仕佳光子科技股份有限公司
河南仕佳光子科技股份有限公司
苏晓华
.
中国专利
:CN116013764B
,2025-04-04
[6]
厚铝生长工艺方法
[P].
闵炼锋
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闵炼锋
.
中国专利
:CN102810504A
,2012-12-05
[7]
成型蓝宝石生长工艺
[P].
芮度保
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芮度保
.
中国专利
:CN1313413A
,2001-09-19
[8]
边缘限定硅膜生长工艺的晶体生长设备与方法
[P].
B·H·麦金托斯
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B·H·麦金托斯
;
M·厄勒特
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M·厄勒特
.
中国专利
:CN1494608A
,2004-05-05
[9]
低位错密度GaN的生长工艺
[P].
B·博蒙
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B·博蒙
;
J-P·福里
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J-P·福里
;
P·吉巴特
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P·吉巴特
.
中国专利
:CN101336314A
,2008-12-31
[10]
一种GaAs单晶生长工艺
[P].
周雯婉
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周雯婉
.
中国专利
:CN114808106A
,2022-07-29
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