光刻用透射UV的混合氟化物晶体

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02817909.9

申请日：

2002-09-13

公开(公告)号：

CN1555499A

公开(公告)日：

2004-12-15

发明(设计)人：

D·C·埃兰 N·F·博雷利 C·M·史密斯 R·W·斯派罗

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

G02B520

IPC分类号：

G02B1100 G03F100 G03C500

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

朱黎明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-02-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-10-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2004-12-15	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻法和空间色散最小化的紫外透射氟化物晶体 [P].

D·C·艾伦 ;

N·F·保雷利 ;

C·M·史密斯 ;

R·W·斯派罗 .

中国专利 :CN1555500A ,2004-12-15

[2]

氟化物晶体的制造方法 [P].

里永知彦 ;

菊山裕久 ;

福田承生 .

中国专利 :CN1823183A ,2006-08-23

[3]

氟化物晶体的制造装置 [P].

福田承生 ;

菊山裕久 ;

里永知彦 .

中国专利 :CN100465357C ,2006-05-24

[4]

稀土离子掺杂氟化物晶体的应用 [P].

郑丽和 ;

吴敏 ;

赵建斌 ;

杨洁 ;

吴鑫昌 ;

闫育辉 .

中国专利 :CN116043331B ,2025-08-05

[5]

预处理金属氟化物及氟化物晶体的制造方法 [P].

石津澄人 ;

关屋章 ;

福田健太郎 ;

须山敏尚 .

中国专利 :CN102026914A ,2011-04-20

[6]

用于显微光刻系统的氟化物透镜晶体 [P].

R·W·斯帕罗 .

中国专利 :CN1367878A ,2002-09-04

[7]

光学制版用的氟化物晶体透镜的坯体 [P].

A·M·马约利 ;

M·A·佩尔 .

中国专利 :CN1429285A ,2003-07-09

[8]

同时生长多根氟化物晶体材料的坩埚 [P].

郭宗海 ;

张可生 .

中国专利 :CN208667892U ,2019-03-29

[9]

氟化物离子电池、氟化物离子电池用的负极活性物质及其制造方法 [P].

野井浩祐 .

日本专利 :CN118693250A ,2024-09-24

[10]

三氟化物和四氟化物的制备方法 [P].

A·皮加莫 ;

M·德维克 ;

L·文德林格尔 .

中国专利 :CN102143930A ,2011-08-03

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