薄膜沉积设备、物理气相沉积装置以及薄膜沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111283138.3

申请日：

2021-11-01

公开(公告)号：

CN114045468B

公开(公告)日：

2022-02-15

发明(设计)人：

程厚义艾梅尔李成杜寅昌赵巍胜姚宇暄许人友汪建王燕

申请人：

申请人地址：

230013 安徽省合肥市新站高新区文忠路999号

IPC主分类号：

C23C1450

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115

代理人：

张梦媚

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-15	公开	公开
2022-07-19	授权	授权
2022-03-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/50 申请日:20211101

共 50 条

[1]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[2]

物理气相沉积装置（薄膜沉积真空预处理腔体） [P].

李天宇 ;

陈骏 .

中国专利 :CN309468812S ,2025-08-29

[3]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[4]

沉积设备以及物理气相沉积腔室 [P].

张军 ;

董博宇 ;

赵晋荣 ;

武学伟 ;

郭冰亮 ;

徐宝岗 ;

张鹤南 ;

王桐 ;

刘绍辉 ;

王军 .

中国专利 :CN107488832B ,2017-12-19

[5]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[6]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

陈杰锋 ;

张辉 .

中国专利 :CN108950510A ,2018-12-07

[7]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

陈杰锋 ;

李理 .

中国专利 :CN208667840U ,2019-03-29

[8]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

白志民 ;

李萌 ;

邱国庆 ;

佘清 ;

王厚工 ;

赵梦欣 ;

丁培军 .

中国专利 :CN106637124A ,2017-05-10

[9]

物理气相沉积设备以及方法 [P].

瞿燕 ;

龙吟 ;

倪棋梁 ;

王恺 .

中国专利 :CN108018536A ,2018-05-11

[10]

薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P].

朱志君 ;

王晖 ;

金京俊 .

中国专利 :CN120193262A ,2025-06-24

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