物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210269186.1

申请日：

2012-07-31

公开(公告)号：

CN103572211B

公开(公告)日：

2014-02-12

发明(设计)人：

边国栋

申请人：

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C1422

IPC分类号：

C23C1402

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

宋合成;黄德海

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-20	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/22 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号变更后:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
2014-03-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101578336604 IPC(主分类):C23C 14/22 专利申请号:2012102691861 申请日:20120731
2016-04-20	授权	授权
2014-02-12	公开	公开

共 50 条

[1]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[2]

混合还原物理气相沉积方法及物理气相沉积设备 [P].

廖俊彦 ;

李易 ;

张淑兰 ;

林圣轩 ;

张峰瑜 ;

林威戎 ;

蔡纯怡 ;

纪志坚 ;

蔡明兴 ;

张珮珊 ;

张志维 .

中国专利 :CN119162539A ,2024-12-20

[3]

静电吸盘、物理气相沉积腔室及物理气相沉积设备 [P].

李昇聪 .

中国专利 :CN220767151U ,2024-04-12

[4]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[5]

工艺套件及物理气相沉积设备 [P].

潘兴强 ;

李靖 .

中国专利 :CN118996364A ,2024-11-22

[6]

物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法 [P].

杨帆 .

中国专利 :CN118854231B ,2025-11-11

[7]

物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法 [P].

杨帆 .

中国专利 :CN118854231A ,2024-10-29

[8]

物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备 [P].

杨涛 ;

黄云岭 .

中国专利 :CN208594329U ,2019-03-12

[9]

物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备 [P].

刘建军 .

中国专利 :CN119020736A ,2024-11-26

[10]

物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 [P].

郭宏瑞 ;

李冰 ;

黄其伟 .

中国专利 :CN110885965A ,2020-03-17

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