混合还原物理气相沉积方法及物理气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411078877.2

申请日：

2024-08-07

公开(公告)号：

CN119162539A

公开(公告)日：

2024-12-20

发明(设计)人：

廖俊彦李易张淑兰林圣轩张峰瑜林威戎蔡纯怡纪志坚蔡明兴张珮珊张志维

申请人：

台湾积体电路制造股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

IPC主分类号：

C23C14/14

IPC分类号：

C23C16/04 C23C16/06 H01L21/3205 H01L21/321 H01L21/67

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/14申请日:20240807
2024-12-20	公开	公开

共 50 条

[1]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[2]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[3]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[4]

静电吸盘、物理气相沉积腔室及物理气相沉积设备 [P].

李昇聪 .

中国专利 :CN220767151U ,2024-04-12

[5]

一种物理气相沉积方法及物理气相沉积装置 [P].

刘丹 ;

穆洪杨 ;

周成龙 ;

董志远 ;

刘田鹏 .

中国专利 :CN119411095B ,2025-07-22

[6]

一种物理气相沉积方法及物理气相沉积装置 [P].

刘丹 ;

穆洪杨 ;

周成龙 ;

董志远 ;

刘田鹏 .

中国专利 :CN119411095A ,2025-02-11

[7]

物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备 [P].

杨涛 ;

黄云岭 .

中国专利 :CN208594329U ,2019-03-12

[8]

物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备 [P].

刘建军 .

中国专利 :CN119020736A ,2024-11-26

[9]

物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 [P].

郭宏瑞 ;

李冰 ;

黄其伟 .

中国专利 :CN110885965A ,2020-03-17

[10]

物理气相沉积设备 [P].

尹勇 .

中国专利 :CN114381692A ,2022-04-22

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