一种物理气相沉积方法及物理气相沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411526176.0

申请日：

2024-10-30

公开(公告)号：

CN119411095B

公开(公告)日：

2025-07-22

发明(设计)人：

刘丹穆洪杨周成龙董志远刘田鹏

申请人：

无锡邑文微电子科技股份有限公司江苏邑文微电子科技有限公司

申请人地址：

214000 江苏省无锡市新吴区观山路1号

IPC主分类号：

C23C14/56

IPC分类号：

C23C14/54

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

姚品雅

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省南通市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	授权	授权
2025-02-11	公开	公开
2025-02-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/56申请日:20241030

共 50 条

[1]

一种物理气相沉积方法及物理气相沉积装置 [P].

刘丹 ;

穆洪杨 ;

周成龙 ;

董志远 ;

刘田鹏 .

中国专利 :CN119411095A ,2025-02-11

[2]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[3]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[4]

一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置 [P].

宋永辉 ;

王世宽 .

中国专利 :CN113846293A ,2021-12-28

[5]

混合还原物理气相沉积方法及物理气相沉积设备 [P].

廖俊彦 ;

李易 ;

张淑兰 ;

林圣轩 ;

张峰瑜 ;

林威戎 ;

蔡纯怡 ;

纪志坚 ;

蔡明兴 ;

张珮珊 ;

张志维 .

中国专利 :CN119162539A ,2024-12-20

[6]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[7]

静电吸盘、物理气相沉积腔室及物理气相沉积设备 [P].

李昇聪 .

中国专利 :CN220767151U ,2024-04-12

[8]

物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备 [P].

刘建军 .

中国专利 :CN119020736A ,2024-11-26

[9]

物理气相沉积线圈的处理方法及物理气相沉积线圈结构 [P].

聂佳相 .

中国专利 :CN101956156A ,2011-01-26

[10]

物理气相沉积处理方法和物理气相沉积处理装置 [P].

前田幸治 ;

横原宏行 ;

曽根浩 ;

宫下哲也 .

中国专利 :CN109868456B ,2019-06-11

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