物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310595436.9

申请日：

2023-05-24

公开(公告)号：

CN119020736A

公开(公告)日：

2024-11-26

发明(设计)人：

刘建军

申请人：

北京北方华创微电子装备有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C23C14/35 C23C14/04 H01J37/34

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;王婷

法律状态：

公开

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-26	公开	公开
2024-12-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/34申请日:20230524

共 50 条

[1]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[2]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[3]

物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备 [P].

杨涛 ;

黄云岭 .

中国专利 :CN208594329U ,2019-03-12

[4]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[5]

混合还原物理气相沉积方法及物理气相沉积设备 [P].

廖俊彦 ;

李易 ;

张淑兰 ;

林圣轩 ;

张峰瑜 ;

林威戎 ;

蔡纯怡 ;

纪志坚 ;

蔡明兴 ;

张珮珊 ;

张志维 .

中国专利 :CN119162539A ,2024-12-20

[6]

静电吸盘、物理气相沉积腔室及物理气相沉积设备 [P].

李昇聪 .

中国专利 :CN220767151U ,2024-04-12

[7]

用于物理气相沉积设备的护罩结构以及物理气相沉积设备 [P].

王大为 ;

吴孝哲 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN110004418A ,2019-07-12

[8]

物理气相沉积设备 [P].

尹勇 .

中国专利 :CN114381692A ,2022-04-22

[9]

物理气相沉积设备 [P].

何龑 ;

杨小军 .

中国专利 :CN202705452U ,2013-01-30

[10]

物理气相沉积设备 [P].

周云 ;

宋维聪 ;

潘钱森 ;

霍焕俊 .

中国专利 :CN110527967B ,2019-12-03

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