物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201820949251.8
申请日
2018-06-20
公开(公告)号
CN208594329U
公开(公告)日
2019-03-12
发明(设计)人
杨涛 黄云岭
申请人
申请人地址
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街7号院6号楼3001室
IPC主分类号
C23C1432
IPC分类号
代理机构
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
孟金喆
法律状态
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码
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共 50 条
[1]
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