靶材组件及物理气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510106297.4

申请日：

2015-03-11

公开(公告)号：

CN106032565A

公开(公告)日：

2016-10-19

发明(设计)人：

佘清

申请人：

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C1422

IPC分类号：

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;张天舒

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-11-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101687383356 IPC(主分类):C23C 14/22 专利申请号:2015101062974 申请日:20150311
2017-10-20	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):C23C 14/22 变更事项:申请人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号变更后:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
2019-07-12	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 14/22 申请公布日:20161019
2016-10-19	公开	公开

共 50 条

[1]

物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备 [P].

杨涛 ;

黄云岭 .

中国专利 :CN208594329U ,2019-03-12

[2]

物理气相沉积靶材组件 [P].

肖文 ;

桑杰·巴特 ;

刘树围 ;

维布什·金达尔 .

中国专利 :CN113330139A ,2021-08-31

[3]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[4]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[5]

控片组件及物理气相沉积设备 [P].

郭俊 ;

拉海忠 ;

闫晓晖 .

中国专利 :CN223003018U ,2025-06-20

[6]

物理气相沉积靶 [P].

C·T·吴 ;

W·易 ;

F·B·希登 .

中国专利 :CN101109068B ,2008-01-23

[7]

混合还原物理气相沉积方法及物理气相沉积设备 [P].

廖俊彦 ;

李易 ;

张淑兰 ;

林圣轩 ;

张峰瑜 ;

林威戎 ;

蔡纯怡 ;

纪志坚 ;

蔡明兴 ;

张珮珊 ;

张志维 .

中国专利 :CN119162539A ,2024-12-20

[8]

静电吸盘、物理气相沉积腔室及物理气相沉积设备 [P].

李昇聪 .

中国专利 :CN220767151U ,2024-04-12

[9]

物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备 [P].

刘建军 .

中国专利 :CN119020736A ,2024-11-26

[10]

防着板及物理气相沉积设备 [P].

胡小波 .

中国专利 :CN108588642A ,2018-09-28

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