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物理气相沉积靶材组件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080009371.X
申请日
:
2020-01-24
公开(公告)号
:
CN113330139A
公开(公告)日
:
2021-08-31
发明(设计)人
:
肖文
桑杰·巴特
刘树围
维布什·金达尔
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
C23C1434
IPC分类号
:
H01J3734
G03F122
G03F152
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
:
徐金国;赵静
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20200124
2021-08-31
公开
公开
共 50 条
[1]
靶材组件及物理气相沉积设备
[P].
佘清
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0
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佘清
.
中国专利
:CN106032565A
,2016-10-19
[2]
物理气相沉积靶
[P].
C·T·吴
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C·T·吴
;
W·易
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W·易
;
F·B·希登
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F·B·希登
.
中国专利
:CN101109068B
,2008-01-23
[3]
物理气相沉积设备的靶材单元及物理气相沉积设备
[P].
杨涛
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杨涛
;
黄云岭
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黄云岭
.
中国专利
:CN208594329U
,2019-03-12
[4]
物理气相沉积靶构造
[P].
S·费拉斯
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S·费拉斯
;
F·阿尔福德
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F·阿尔福德
;
金在衍
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金在衍
;
S·I·格拉布梅尔
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S·I·格拉布梅尔
;
S·D·斯特罗瑟尔斯
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S·D·斯特罗瑟尔斯
;
A·N·A·雷格
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A·N·A·雷格
;
R·M·普拉特
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R·M·普拉特
;
W·H·霍尔特
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W·H·霍尔特
;
M·D·佩顿
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M·D·佩顿
.
中国专利
:CN1910304A
,2007-02-07
[5]
物理气相沉积的靶结构
[P].
陈秉源
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陈秉源
;
陈宏政
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陈宏政
;
谢志轩
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谢志轩
;
王御轩
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王御轩
.
中国专利
:CN109207940A
,2019-01-15
[6]
物理气相沉积腔室靶材的主体
[P].
大卫·冈瑟
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应用材料公司
应用材料公司
大卫·冈瑟
;
基兰库马尔·N·萨凡迪亚
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应用材料公司
应用材料公司
基兰库马尔·N·萨凡迪亚
;
宋佼
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应用材料公司
应用材料公司
宋佼
;
玛丹·K·希莫加迈拉拉帕
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应用材料公司
应用材料公司
玛丹·K·希莫加迈拉拉帕
;
崔玥
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应用材料公司
应用材料公司
崔玥
;
陈彦竹
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
陈彦竹
;
吴梦雪
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
吴梦雪
.
美国专利
:CN308886421S
,2024-10-15
[7]
物理气相沉积机台
[P].
王晓
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
王晓
.
中国专利
:CN119433468A
,2025-02-14
[8]
物理气相沉积腔室靶材的中央部
[P].
大卫·冈瑟
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
大卫·冈瑟
;
基兰库马尔·N·萨凡迪亚
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
基兰库马尔·N·萨凡迪亚
;
宋佼
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应用材料公司
应用材料公司
宋佼
;
玛丹·K·希莫加迈拉拉帕
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应用材料公司
应用材料公司
玛丹·K·希莫加迈拉拉帕
;
崔玥
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
崔玥
;
陈彦竹
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
陈彦竹
;
吴梦雪
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
吴梦雪
.
美国专利
:CN309188882S
,2025-03-21
[9]
物理气相沉积腔室靶材的中央部
[P].
马丁·李·里克
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
马丁·李·里克
;
张富宏
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应用材料公司
应用材料公司
张富宏
;
M·K·希莫加·迈拉拉帕
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
M·K·希莫加·迈拉拉帕
.
美国专利
:CN308836571S
,2024-09-13
[10]
物理气相沉积处理系统的靶材冷却
[P].
王伟
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王伟
;
卡尔蒂克·萨哈
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卡尔蒂克·萨哈
;
维希瓦·库马尔·帕迪
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0
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维希瓦·库马尔·帕迪
.
中国专利
:CN110382733A
,2019-10-25
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