物理气相沉积腔室靶材的主体

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN202130732794.1

申请日：

2021-11-08

公开(公告)号：

CN308886421S

公开(公告)日：

2024-10-15

发明(设计)人：

大卫·冈瑟基兰库马尔·N·萨凡迪亚宋佼玛丹·K·希莫加迈拉拉帕崔玥陈彦竹吴梦雪

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

24-01

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

闻卿

法律状态：

授权

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-15	授权	授权

共 50 条

[1]

物理气相沉积腔室靶材的中央部 [P].

大卫·冈瑟 ;

基兰库马尔·N·萨凡迪亚 ;

宋佼 ;

玛丹·K·希莫加迈拉拉帕 ;

崔玥 ;

陈彦竹 ;

吴梦雪 .

美国专利 :CN309188882S ,2025-03-21

[2]

物理气相沉积腔室靶材的主体及其上部 [P].

大卫·冈瑟 ;

宋佼 ;

基兰库马尔·N·萨凡迪亚 ;

玛丹·K·希莫加迈拉拉帕 .

美国专利 :CN308893298S ,2024-10-18

[3]

物理气相沉积腔室靶材的中央部 [P].

马丁·李·里克 ;

张富宏 ;

M·K·希莫加·迈拉拉帕 .

美国专利 :CN308836571S ,2024-09-13

[4]

物理气相沉积腔室用溅射靶的主体 [P].

许绍杰 ;

苏洁敏 ;

吴梦雪 ;

帕拉尼亚潘·奇丹巴拉姆 .

美国专利 :CN308777672S ,2024-08-09

[5]

用于物理气相沉积腔室靶材的冷却环 [P].

布赖恩·韦斯特 ;

吉留刚一 ;

拉尔夫·霍夫曼 .

中国专利 :CN103764869A ,2014-04-30

[6]

物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备 [P].

郭宏瑞 ;

李冰 ;

黄其伟 .

中国专利 :CN110885965A ,2020-03-17

[7]

沉积环（用于物理气相沉积腔室） [P].

大卫·冈瑟 ;

蔡振雄 ;

希兰库玛·尼拉桑德拉·萨万戴亚 .

中国专利 :CN305627489S ,2020-02-21

[8]

物理气相沉积靶材组件 [P].

肖文 ;

桑杰·巴特 ;

刘树围 ;

维布什·金达尔 .

中国专利 :CN113330139A ,2021-08-31

[9]

用于物理气相沉积腔室的溅射靶 [P].

克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 ;

大卫·冈瑟 ;

许绍杰 .

中国专利 :CN306285252S ,2021-01-15

[10]

用于物理气相沉积腔室的溅射靶 [P].

马丁·里克 ;

威廉·弗鲁赫特曼 ;

伊利亚·拉维特斯凯 ;

斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 ;

克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 .

中国专利 :CN306687495S ,2021-07-16

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